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微量分析委測服務

Trace Analysis Service

協助客戶進行樣品分析需求討論、委測規劃與結果判讀,適用於材料、化學品、清洗液、製程相關樣品與異常排查。

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ICP-MS 方法開發與轉移產品圖片

ICP-MS 方法開發與轉移

Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 方法開發、方法確效與技術轉移服務,適用於半導體常見基質、高純化學品、UPW、酸鹼溶液、溶劑、清洗液與製程材料。視基質種類、目標元素、前處理方式、空白控制、儀器配置與客戶實驗室條件,可開發 sub-ppt 至 ppt level 的微量金屬分析方法。

材質: N/A (Service)

ICP-MS 方法開發ICP-MS 方法轉移ICP-MS Method Development
液體化學品超微量分析服務 / Liquid Chemical Ultra-trace Analysis Service

液體化學品超微量分析

Ultra-trace Analytics 提供液體化學品超微量分析服務,適用於各類半導體化學品、高純酸鹼、電子級溶劑、UPW、清洗液、蝕刻液、電鍍液與製程液體。可依樣品與分析目的評估 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 等技術,分析金屬、有機物、離子與粒子相關污染。

材質:

液體化學品超微量分析Ultra-trace AnalysisTrace Analysis Service
GC-MS 委測分析服務產品圖片

GC-MS 委測分析服務

Ultra-trace Analytics 提供 GC-MS 委測分析服務,適用於半導體有機溶劑與高潔淨化學品,包括 IPA、OK73、nBAC 等常見有機液體。可依樣品基質與分析目的評估有機雜質、未知峰、批次差異與 trace organic contamination 分析。

材質: N/A (Service)

GC-MS 委測GC-MS 分析服務GC-MS Analysis Service
ICP-MS 委測分析服務產品圖片

ICP-MS 委測分析服務

Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 委測分析服務,適用於半導體與化學工業常見液體,包括高純化學品、UPW、酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液與電鍍液。視樣品種類、基質、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器條件,可評估 ppq 至 ppt level 的微量金屬分析能力。

材質: N/A (Service)

ICP-MS 委測ICP-MS 分析服務ICP-MS Analysis Service

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