
15 nm Fe 奈米粒徑校正標準品|Fe Nanoparticle Size Calibration Standard
Ultra Trace Analytics 提供 15 nm Fe nanoparticle standard,適用於 SEM、TEM、SP-ICP-MS、DLS、NTA 的粒徑校正、方法開發與儀器確認。
材質: Lab-grade

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Ultra Trace Analytics 提供 15 nm Fe nanoparticle standard,適用於 SEM、TEM、SP-ICP-MS、DLS、NTA 的粒徑校正、方法開發與儀器確認。
材質: Lab-grade

18.2 MΩ·cm Low Metal Ultrapure Water,符合半導體、微污染分析與高潔淨實驗室應用情境,可依需求提供典型規格與客製選項。
材質: Lab-grade

XJ 系列石墨消化儀 / 石墨消解儀採石墨加熱體與立體包裹式加熱設計,具分體式控制器、PID 數顯控溫與分段式設定,適用於酸消解、趕酸、ICP-MS 樣品前處理、食品、土壤、製藥、化工、冶煉與電子產品分析。提供多種消解位數與 PFA / PTFE 消解管選項,並可依需求定制。
材質: 石墨

低溫循環水槽(Cooling Circulator / Refrigerated Heating Circulator)可提供冷卻、加熱、內槽恆溫與外部循環,適用於分析儀器冷卻、反應槽控溫、冷凝系統、半導體研發與材料實驗室溫控應用。
材質: Stainless steel bath + laboratory-grade circulation system

High-end Microfiber Cleanroom Wiper,符合半導體、微污染分析與高潔淨實驗室應用情境,可依需求提供典型規格與客製選項。
材質: Lab-grade

超純水用除硼樹脂(Boron Removal Resin for Ultrapure Water)為 Boron selective ion exchange resin,可用於半導體 UPW、DI water polishing、ICP-MS trace analysis 與低背景分析用水的終端拋光配置,協助降低 Boron 背景干擾。
材質: Boron selective chelating resin(可依型號與配置確認)

Ultra-trace Analytics 提供超高純度電子級 IPA(High Purity Isopropyl Alcohol / Electronic Grade IPA),適用於半導體濕製程、晶圓清洗、IPA drying、高潔淨實驗室與微量污染控制。最高等級可達各金屬元素 <1 ppt,實際規格依使用需求、分析項目與供應條件確認。
材質: 依等級確認

適用於半導體 UPW、DI water 與電子級化學品 polishing 的 ultralow metal resin,協助降低 Na、K、Ca、Mg、Fe、Cu、Zn、Ni、Al 等金屬離子風險。
材質: Lab-grade

Ultra Trace Analytics 提供預清洗 TOC 樣品瓶(Pre-cleaned and Certified TOC Vial),40 mL clear glass vial 規格(27.5 × 95 mm),TOC 背景值 < 10 ppb 並附 Certificate of Analysis(CoA),適用於 TOC testing、USP <643>、純水測試、清潔驗證、validation standards 儲存,以及製藥與半導體水質監控流程。
材質: Clear glass vial + 24-414 PP cap + PTFE/Silicone septa

Ultra Trace Analytics 提供 AAO 奈米孔洞細胞培養基板(AAO Nanoporous Cell Culture Substrate),以規律 nanoporous anodic aluminum oxide 結構作為 cell culture nanotopography research platform,適用於細胞貼附、細胞形貌、biointerface、biosensing 與 high-resolution bioimaging 研究,並可討論孔徑、孔距、厚度、尺寸與表面處理。
材質: Anodic Aluminum Oxide (AAO)

CRDS 專用氣體純化器(CRDS Gas Purifier)適用於 CRDS 載氣、零氣、purge gas、CDA / XCDA 與高純氣體背景雜質控制。NX、NX-H、X 系列脫除深度可達 <1 ppb,XT 系列適用 CDA / XCDA,脫除深度可達 <0.01 ppb,可降低 H2O、O2、CO2、CO、H2、organics、TOC、acid、base 與 refractory compounds 等雜質風險。
材質: 高純氣體純化系統

Ultra-trace Analytics 提供 GC 專用氣體純化器(GC Gas Purifier),可協助去除載氣與偵測器氣體中的氧氣、水氣與碳氫化合物,降低背景干擾、保護 GC column,適用於 GC、GC/MS、FID、TCD 與高潔淨分析實驗室。
材質: 依型號配置

ghost buster ii lc impurity trap column ghost peak適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

要做到 ppq / sub-ppt 超低背景 ICP-MS 分析,霧化器清洗治具是高潔淨維護流程的必備工具之一。本產品可依市面各 ICP-MS 廠牌、型號與霧化器尺寸客製對應,協助建立標準化、可重複、低污染風險的霧化器清洗、漂洗、晾乾與保存流程。
材質: Lab-grade

ICP-MS Torch 及 Cone 清洗治具可依市面各 ICP-MS 廠牌與型號的 Cone / Torch 尺寸客製對應,適用於 Sampler Cone、Skimmer Cone、Interface Cone 與 Torch 的酸洗、浸泡、漂洗、晾乾與高潔淨保存流程。
材質: Lab-grade

ICPMS gas purifier high quality low detection limit適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

ISO Laminar Flow Cabinet,符合半導體、微污染分析與高潔淨實驗室應用情境,可依需求提供典型規格與客製選項。
材質: Lab-grade

microplastic reference material適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

polyimide pi track etched membrane適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

Ultra-trace Analytics 提供 PTFE 托盤 / 防漏盤(PTFE Tray / PTFE Lab Pan / PTFE Spill Tray),採 PTFE 材質,一體製成無焊接,表面光潔且低吸附,適合用於高潔淨實驗室、半導體微量分析、酸鹼化學品操作、樣品暫置、容器承接與 secondary containment 應用。提供多種標準尺寸,亦可依需求討論客製規格。
材質: PTFE

swcnt single wall carbon nanotube適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

track etch membrane pc適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

track etch membrane pet適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade

UPW system ro 18 2 m cm type i type iii適用於高潔淨實驗室與半導體/微量分析流程,支援樣品處理與污染控制需求。
材質: Lab-grade
此分類涵蓋多種日常所需項目,適合搭配既有流程進行整體配置。
若有特定場域需求,可進一步討論材質、尺寸與使用方式。