Ultra-trace Analytics超微分析科技

產品項目

ICP-MS 委測分析服務

Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 委測分析服務,適用於半導體與化學工業常見液體,包括高純化學品、UPW、酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液與電鍍液。視樣品種類、基質、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器條件,可評估 ppq 至 ppt level 的微量金屬分析能力。

材質: N/A (Service)

ICP-MS 委測分析服務產品圖片

應用情境

半導體製程化學品、高純化學品與 UPW 的 trace metals analysis酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液、電鍍液之 elemental impurity analysis送樣分析、委託檢測與分析報告交付

可選規格

歡迎提供使用情境、材質、容量或尺寸需求,我們可協助確認方案。

產品說明

Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 委測分析服務,適用於半導體與化學工業常見液體,包括高純化學品、UPW、酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液與電鍍液。視樣品種類、基質、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器條件,可評估 ppq 至 ppt level 的微量金屬分析能力。

針對半導體與化學工業常見液體的 ICP-MS 委測分析

Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 委測分析服務,協助客戶檢測半導體製程化學品、高純化學品、UPW、酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液、電鍍液與各類化學工業液體中的微量金屬與元素雜質。視樣品種類、基質複雜度、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器條件,可評估 ppq 至 ppt level 的分析能力。

主要特色

ppq 至 ppt level 分析能力評估

依樣品種類、目標元素、空白背景與前處理條件,評估可達 ppq 至 ppt level 的微量元素分析能力。實際能力需依樣品條件與測試結果確認。

適合半導體液體樣品

可應用於半導體製程化學品、高純酸鹼、UPW、清洗液、蝕刻液、電鍍液、溶劑與其他高潔淨液體樣品。

支援化學工業常見液體

可針對化學品、溶劑、添加劑、製程液、清洗液與客戶指定液體樣品進行元素雜質分析可行性評估。

重視空白與背景污染控制

針對 ultra-trace analysis,重視樣品容器、稀釋液、前處理耗材、實驗環境與操作流程造成的背景影響。

可依元素與基質選擇分析策略

依目標元素與基質特性,評估適合的稀釋、前處理、校正、內標、干擾修正與 ICP-MS / ICP-MS/MS 條件。

提供清楚的分析報告

可依委測需求提供元素分析結果、單位、樣品資訊、測試條件摘要與必要備註。實際報告格式依委測範圍確認。

送樣前,建議先提供這些資訊

不確定樣品是否能做到 ppq 或 ppt level?請提供樣品基質、SDS 與目標元素,我們可協助評估委測可行性。

  • 樣品名稱與用途
  • SDS 或主要成分資訊
  • 樣品基質:酸、鹼、溶劑、水樣、清洗液、電鍍液、蝕刻液或其他液體
  • 目標元素清單
  • 目標濃度範圍或規格要求
  • 希望結果單位:ppt、ppb、ng/L、ng/g 或其他
  • 樣品量與可提供瓶數
  • 是否具腐蝕性、揮發性、可燃性或其他安全風險
  • 是否需要特殊容器或空白樣
  • 是否需要 QC 資料、spike recovery、重複測試或客戶指定報告格式
  • 是否需要與既有 COA 或客戶規格進行比對

需要先做送樣可行性評估?

請提供樣品基質、目標元素與報告需求,我們可協助評估 ICP-MS Analysis Service / ICP-MS Testing Service 可行性與報價範圍。

  • 確認樣品 SDS 與安全資訊
  • 確認目標元素與目標濃度範圍
  • 確認樣品量與送樣條件
  • 確認是否需 LOD/LOQ/QC 摘要
  • 確認報告格式與判定需求

FAQ

ICP-MS 委測分析服務可以分析哪些樣品?

本服務主要針對半導體與化學工業常見液體,例如高純化學品、UPW、酸鹼液、溶劑、清洗液、蝕刻液、電鍍液與其他製程液體。實際是否可分析需依樣品 SDS、基質組成與安全性確認。

ICP-MS 分析可以做到 ppq level 嗎?

視樣品種類、基質、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器條件,有些樣品可評估 ppq 至 ppt level 的分析能力。實際可達能力需依樣品條件與測試結果確認,不能保證所有樣品與元素皆可達 ppq level。

ppq、ppt、ppb 分別代表什麼?

ppb、ppt、ppq 分別代表十億分之一、兆分之一與千兆分之一等級的濃度概念。濃度越低,對樣品空白、容器潔淨、前處理與儀器條件的要求越高。

半導體化學品為什麼需要 ICP-MS 委測?

半導體製程對金屬污染非常敏感,高純化學品、UPW、酸鹼液與溶劑中的微量金屬可能影響製程穩定性、缺陷控制與材料品質。ICP-MS 可用於追蹤 trace metals 與 ultra-trace contamination。

送樣前需要提供哪些資料?

建議提供樣品名稱、SDS、主要成分、目標元素、目標規格、樣品量、希望的報告單位與安全資訊。若樣品具腐蝕性、揮發性、可燃性或特殊危害,需提前說明。

可以分析化學工業的液體樣品嗎?

可以依樣品性質評估。常見需求包含原料液、製程液、清洗液、添加劑、溶劑與其他化學工業液體中的元素雜質分析。實際可行性需依基質與目標元素確認。

報告會包含 LOD、LOQ 或 QC 資料嗎?

可依委測需求討論是否提供 LOD、LOQ、空白、重複性、spike recovery、QC check 或其他資料。實際報告內容與 QC 項目需在委測前確認。

ICP-MS 委測和 ICP-MS 方法開發有什麼不同?

委測分析服務主要是客戶送樣後取得分析結果與報告;方法開發與轉移則是協助客戶建立可在自己實驗室執行的分析方法、SOP 與 QC 流程。兩者可依需求分開或搭配規劃。

需要 ppq / ppt level ICP-MS 委測分析?

請提供您的樣品基質、SDS、目標元素、目標規格、樣品量與報告需求。Ultra-trace Analytics 可協助評估 ICP-MS / ICP-MS/MS 委測分析可行性,並提供適合的分析方案與報價。