半導體基質導向的方法開發
針對半導體常見化學品、UPW、酸鹼溶液、溶劑、清洗液與製程材料，評估合適的稀釋、前處理、校正與干擾控制策略。
應用情境
半導體常見基質的 ICP-MS Method Development 與 Method Validation高純化學品、UPW、酸鹼與溶劑樣品之 trace metals analysis / ultra-trace analysis 方法建立方法開發、SOP 建立與 Technology Transfer 導入支援
可選規格
歡迎提供使用情境、材質、容量或尺寸需求，我們可協助確認方案。
產品說明
Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 方法開發、方法確效與技術轉移服務，適用於半導體常見基質、高純化學品、UPW、酸鹼溶液、溶劑、清洗液與製程材料。視基質種類、目標元素、前處理方式、空白控制、儀器配置與客戶實驗室條件，可開發 sub-ppt 至 ppt level 的微量金屬分析方法。
協助半導體與高潔淨實驗室建立可落地的 ICP-MS 方法
Ultra-trace Analytics 提供 ICP-MS / ICP-MS/MS 方法開發、方法確效與技術轉移服務，針對半導體常見基質、高純化學品、UPW、酸鹼溶液、溶劑、清洗液與製程材料，協助建立低背景且可重複執行的微量金屬分析流程。視基質種類、目標元素、前處理方式、空白控制與儀器配置，可開發 sub-ppt 至 ppt level 的分析方法。
主要特色
sub-ppt 至 ppt level 分析能力評估
視基質、目標元素、空白控制與儀器條件，協助開發 sub-ppt 至 ppt level 的分析方法；實際能力需依樣品條件與確效結果確認。
空白與污染來源控制
評估容器、試劑、操作環境、前處理流程與耗材對背景值影響，協助建立 ICP-MS blank control strategy。
干擾與基質效應處理
可依目標元素與樣品基質，評估同位素選擇、內標、稀釋策略、標準添加法、matrix matching、collision / reaction mode 等方法條件。
方法確效與 QC 設計
可協助設計 LOD / LOQ、線性、回收率、重複性、方法空白、spike recovery、QC check sample 與批次判定邏輯。
技術轉移與 SOP 建立
協助整理客戶可執行的 ICP-MS SOP，並支援導入初期的條件比對、QC 規則建置與常見問題排查。
啟動方法開發前，建議先提供這些資訊
不確定目前方法是否能做到 sub-ppt 或 ppt level？請提供基質、目標元素與現有方法，我們可協助評估可行性與開發方向。
- ☑ 樣品名稱與基質種類
- ☑ SDS 或主要成分資訊
- ☑ 目標元素清單
- ☑ 目標規格或希望達到的濃度範圍
- ☑ 樣品中酸、鹼、溶劑或鹽類濃度
- ☑ 目前使用的前處理方式
- ☑ 目前遭遇的問題：blank 過高、回收率不佳、干擾、重複性差、LOD 不足等
- ☑ 客戶實驗室儀器型號與是否具備 ICP-MS/MS
- ☑ 是否需要 SOP、方法確效資料或完整技術轉移
- ☑ 是否需要導入至量測日常 QC 流程
需要評估方法開發與技轉可行性？
請提供樣品基質、目標元素、目標規格與儀器條件，我們可協助評估 ICP-MS Method Development / Method Transfer 方向與報價範圍。
- • 確認基質與樣品濃度資訊
- • 確認目標元素與管制規格
- • 確認目前方法與主要痛點
- • 確認是否需要 Method Validation 與 SOP
- • 確認是否需要 Technology Transfer 導入支援
FAQ
什麼是 ICP-MS 方法開發？
ICP-MS 方法開發是針對特定樣品基質與目標元素，建立樣品前處理、稀釋、校正、內標、干擾控制、空白控制與 QC 規則的分析流程。對半導體微量污染分析而言，方法開發通常比單純儀器量測更重要。
ICP-MS 方法可以做到 sub-ppt 嗎？
視基質種類、目標元素、前處理方式、空白控制、儀器配置與實驗室條件，有些應用可開發至 sub-ppt 或 ppt level。實際可達能力需透過方法開發與確效結果確認，不能只依儀器規格判斷。
哪些半導體基質適合做 ICP-MS 方法開發？
常見基質包含 UPW、HF、HCl、HNO3、H2SO4、H3PO4、NH4OH、TMAH、IPA、電子級溶劑、清洗液、etchant、slurry、plating bath 與其他製程化學品。實際方法需依基質濃度、目標元素與儀器條件確認。
ICP-MS 方法轉移包含哪些內容？
方法轉移通常包含方法條件說明、樣品前處理步驟、校正與 QC 設計、空白控制建議、干擾排查重點、SOP 文件與客戶實驗室導入支援。實際內容依專案範圍確認。
為什麼半導體 ICP-MS 分析需要特別做 blank control？
在 ppt 或 sub-ppt level 分析中，容器、試劑、環境、操作流程與耗材都可能貢獻背景值。若沒有良好的 blank control，即使儀器靈敏度足夠，也可能無法取得可信的低濃度結果。
ICP-MS/MS 和 ICP-MS 方法開發有什麼差異？
ICP-MS/MS 可透過反應或碰撞機制處理部分多原子干擾，對某些基質與元素可能有幫助。但是否需要 ICP-MS/MS，仍需依基質、目標元素、干擾情況與客戶儀器條件評估。
Ultra-trace Analytics 可以協助把方法轉移到我們自己的實驗室嗎？
可以依專案需求討論方法轉移與導入支援，包括 SOP、QC 設計、方法條件說明、問題排查與客戶實驗室條件比對。實際支援方式需依客戶儀器、實驗室條件與專案範圍確認。
開始方法開發前需要提供什麼資料？
建議提供樣品基質、SDS、目標元素、目標濃度或規格、目前方法、遇到的問題、儀器型號、是否具備 ICP-MS/MS，以及希望交付的內容，例如 SOP、確效資料或技術轉移。
需要建立半導體 ICP-MS 微量金屬分析方法？
請提供您的樣品基質、目標元素、目標規格、目前遇到的問題與客戶實驗室儀器條件。Ultra-trace Analytics 可協助評估 ICP-MS / ICP-MS/MS 方法開發、方法確效與技術轉移方案。