金屬雜質可能殘留於 wafer 表面
IPA 常直接接觸晶圓或高潔淨零件表面，若含有 Na、K、Ca、Fe、Cu、Zn 等金屬雜質，可能造成製程風險與分析背景干擾。
應用情境
半導體濕製程：wafer cleaning、IPA drying、rinse / drying process support高潔淨零件與材料清洗：石英、金屬、陶瓷、PFA / PTFE 相關零件清洗微量污染控制：trace metals control、背景污染降低、半導體化學品分析流程品質管理與研發實驗室：ICP-MS / ICP-MS/MS 前處理、材料表面殘留污染研究、導入前評估
可選規格
歡迎提供使用情境、材質、容量或尺寸需求，我們可協助確認方案。
產品說明
Ultra-trace Analytics 提供超高純度電子級 IPA（High Purity Isopropyl Alcohol / Electronic Grade IPA），適用於半導體濕製程、晶圓清洗、IPA drying、高潔淨實驗室與微量污染控制。最高等級可達各金屬元素 <1 ppt，實際規格依使用需求、分析項目與供應條件確認。
在半導體製程中，IPA 本身也可能成為污染來源
一般工業級或試藥級 IPA 不一定適合高潔淨製程
即使純度百分比看似很高，也不代表金屬、顆粒、水分與陰離子等關鍵污染物符合半導體製程需求。
清洗與乾燥步驟需要穩定批次品質
在 wafer cleaning、IPA vapor drying、零件清洗與高潔淨實驗室中，批次穩定性與可追溯的規格文件非常重要。
先進製程需要 ppt 等級污染控制
當製程節點與缺陷控制要求提高，trace metals 與其他微量污染物需要更嚴格的管控與檢測能力。
可討論規格與選型資訊
| 項目 | 說明 |
|---|---|
| 產品名稱 | 超高純度電子級 IPA |
| 英文名稱 | High Purity Isopropyl Alcohol / Electronic Grade IPA |
| 化學名稱 | Isopropyl Alcohol / 2-Propanol / 異丙醇 |
| CAS No. | 67-63-0 |
| 適用產業 | 半導體、先進封裝、電子材料、高潔淨實驗室、微量分析 |
| 主要用途 | 晶圓清洗、IPA 乾燥、零件清洗、樣品前處理、污染控制 |
| 金屬元素等級 | 最高等級可達各 metal 元素 <1 ppt，實際規格依需求確認 |
| 可討論項目 | 金屬元素、顆粒、水分、陰離子、TOC、包裝、供應容量與 COA |
| 包裝形式 | 依需求與供應條件確認 |
| 建議選型資訊 | 請提供應用、目標污染物、使用量、包裝需求、檢測項目與目標規格 |
「<1 ppt 為最高等級可討論規格，實際供應規格需依目標元素、檢測方法、包裝形式、批次條件與客戶使用需求確認。歡迎提供 specification 或製程需求，由我們協助討論合適等級。」
電子級 IPA 與一般 IPA 的差異
一般 IPA
- • 多以純度百分比或基本試藥規格為主
- • 不一定針對 ppt 等級金屬污染設計
- • 不一定適合直接接觸高潔淨製程表面
- • 規格可能不足以支援半導體製程導入
超高純度電子級 IPA
- • 針對 semiconductor / high-cleanliness application 設計
- • 可討論 trace metals、particles、moisture、anions 等關鍵污染物
- • 最高等級可達各金屬元素 <1 ppt
- • 適合 wafer cleaning、IPA drying 與高潔淨製程應用
為高潔淨製程設計的超高純度 IPA
Ultra-trace Analytics 提供可依應用討論規格的 High Purity IPA / Electronic Grade IPA，適合半導體清洗、晶圓乾燥與高潔淨實驗室。最高等級可達各金屬元素 <1 ppt，實際規格需依目標元素、分析方法、包裝條件與供應條件確認。
主要特色
ppt 等級金屬控制
最高等級可達各金屬元素 <1 ppt，適合對 trace metals 有高度要求的應用。實際規格依目標元素與使用條件確認。
適合半導體清洗與乾燥
可應用於 wafer cleaning、IPA drying、零件清洗、表面處理與高潔淨實驗室操作。
可依應用討論規格
依客戶需求討論金屬元素、顆粒、水分、陰離子、包裝容量、容器材質與供應形式。
支援微量污染控制
適合半導體製程、材料研發、化學品品質管理與超微量分析實驗室。
降低背景污染風險
透過高純度化學品選型，降低清洗、乾燥或樣品處理流程中引入污染的可能性。
可搭配分析與技術諮詢
可依應用協助討論規格、檢測項目、COA 需求與品質管制重點。
如何確認適合的電子級 IPA 規格？
不確定該選哪個等級？請提供目標用途、規格表或關鍵污染物，我們可協助確認合適的電子級 IPA 方案。
- ☑ 使用位置：wafer cleaning / IPA drying / parts cleaning / lab cleaning / sample preparation
- ☑ 目標污染物：trace metals / particles / moisture / anions / organics
- ☑ 目標金屬元素：Na、K、Ca、Mg、Fe、Cu、Zn、Al、Ni、Cr、Mn、Pb 等，依需求討論
- ☑ 需要的規格等級：一般高純度、semiconductor grade、ppt level metals、<1 ppt metals
- ☑ 包裝需求：bottle、drum、canister 或其他供應形式，依可供應條件確認
- ☑ 使用量與批次需求：研發、小量驗證、pilot line、量產需求
- ☑ 是否需要 COA、ICP-MS 檢測資料或客戶指定規格比對
不確定該選哪個等級？
請提供目標用途、規格表或關鍵污染物，我們可協助確認合適的電子級 IPA 方案。
- • 應用情境與製程位置
- • 目標污染物與目標元素
- • 是否需要 <1 ppt metals 等級討論
- • 包裝形式與使用量
- • 是否需要 COA 或 specification 比對
FAQ
什麼是電子級 IPA？
電子級 IPA 是針對電子、半導體與高潔淨製程需求設計的異丙醇，通常會比一般工業級或試藥級 IPA 更重視金屬雜質、顆粒、水分、陰離子與其他微量污染物控制。
超高純度電子級 IPA 可以用在哪些半導體應用？
常見應用包含晶圓清洗、IPA 乾燥、零件清洗、高潔淨實驗室操作、樣品前處理與微量污染控制。實際是否適用仍需依製程條件與規格要求確認。
各 metal 元素 <1 ppt 是什麼意思？
<1 ppt 代表最高等級可討論到單一金屬元素濃度低於 1 part per trillion 的等級。實際規格需依目標元素、檢測方法、包裝方式、批次條件與使用需求確認。
為什麼半導體製程需要控制 IPA 中的金屬雜質？
IPA 可能直接接觸晶圓或高潔淨零件表面，若含有金屬雜質，可能導入污染風險並影響製程穩定性。因此在高潔淨應用中，trace metals control 是重要規格之一。
電子級 IPA 與 99.9% IPA 有什麼不同？
99.9% 主要描述主成分純度，但不一定代表金屬、顆粒、水分、陰離子等污染物達到半導體製程需求。電子級 IPA 通常會針對這些關鍵污染物建立更嚴格的規格。
可以提供 COA 或客戶指定規格嗎？
可依供應條件與客戶需求討論。建議提供目標規格、關鍵元素、包裝需求與使用情境，可協助確認是否有合適方案。
如何選擇適合的 High Purity IPA？
建議提供用途、使用量、製程位置、目標污染物、目標金屬元素、包裝需求與是否需要 COA，以利協助確認適合的產品等級。
需要討論超高純度電子級 IPA 規格？
請提供您的應用情境、目標污染物、金屬元素規格、使用量與包裝需求。可協助確認適合的 High Purity IPA / Electronic Grade IPA 方案。