專為微量分析設計：安全復原霧化效率，徹底清除金屬、有機物與矽基質沉積。

在 ICP-MS 分析中，霧化器 (Nebulizer) 的阻塞與記憶效應是影響數據準確性的最大殺手。本清洗治具專為恢復霧化器效能而生，透過超純氮氣驅動的自吸作用 (Self-aspiration)，標準化地清除進樣管內累積的頑強附著物，讓您的設備重回最佳狀態 。

1. 獨家安全防護設計 (Safety First)
操作強酸清洗不再提心吊膽。本治具配備特殊的接口設計，能注入廠務超純水 (Facility UPW) ，在霧化出口處直接溶解、帶走噴出的強酸氣霧，有效防止化學氣溶膠逸散，大幅提升實驗室操作安全性 。

2. 高效自吸清潔系統 (Self-Aspiration Mechanism)
利用超純氮氣 (UHP Nitrogen) 產生穩定的負壓，以精確流速，引導高濃度清洗試劑流經微細的進樣管。相比傳統浸泡，流動式清洗能更徹底帶走管壁汙染物 。

3. 標準化 SOP 流程支援 (Standardized Process)
告別憑感覺清洗。本治具搭配標準清洗程序，從酸液清洗到超純水 (UPW) 潤洗 (Rinse)，確保每次清洗效果的一致性 。

ICP-MS 關鍵組件專用清洗治具 (Cone 及 Torch)

守護精密核心，提升分析數據的穩定性
專為 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS) 設計的高純度 PTFE 清洗支撐平台。

在 ICP-MS 的日常維護中，Sample Cone（採樣錐）、Skimmer Cone（截取錐）與 Quartz Torch（石英矩管）是最昂貴且脆弱的關鍵組件。本清洗治具專為解決清洗過程中的風險而設計，提供一個穩固、抗強酸鹼的支撐平台 。

它能確保組件在超音波清洗或酸液浸泡過程中，避免因碰撞造成精密孔徑損壞，同時大幅提升清洗效率與潔淨度的一致性 。

1. 極致耐腐蝕材質
主體採用高純度 PTFE (聚四氟乙烯/鐵氟龍) 材質製造，具備極佳的化學惰性 。
- 耐酸鹼： 可完全耐受實驗室常用的高濃度酸液，包括硝酸 (HNO3)、鹽酸 (HCl)、氫氟酸 (HF)、硫酸 (H2SO4) 。
- 耐溶劑： 適用於 IPA、PGMEA、PGME 等有機溶劑清洗 。

2. 精密防護設計
- 懸空保護： 治具特殊的凹槽設計，讓 Cone 的尖端朝上或懸空，確保極為精密的尖端孔徑絕不接觸底部表面，防止物理性磨損或碰撞變形 。
- 穩固支撐： 專屬的 Torch 長管固定座與 Cone 凹槽，確保翻轉或移動治具時組件不脫落，解決傳統燒杯清洗時組件互相碰撞的風險 。

3. 提升清洗效率
- 超音波相容： 結構穩固，可整組放入超音波清洗機中進行震盪清洗，讓清洗液均勻覆蓋組件內外 。
- 操作便利： 整合了進樣錐固定槽與火炬管固定架，一次完成多個關鍵組件的清洗流程 。

專為半導體製程打造的 ppq 級極致檢測方案

我們提供業界領先的 ICP-MS (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 分析服務，具備極低的偵測極限與卓越的抗干擾能力，協助您精準監控原物料與製程化學品的潔淨度。

我們能同時分析週期表中絕大多數的金屬元素（如 Fe, Cu, Ni, Cr, Zn, Na, K 等），偵測極限可達 1 ppt (parts per trillion) 等級。

1. 濕製程化學品與原物料分析 (Wet Chemicals & Materials)
針對半導體廠使用的高純度化學品進行全元素掃描。
- 分析對象： 硫酸 (H₂SO₄)、雙氧水 (H₂O₂)、氨水 (NH₄OH)、氫氟酸 (HF)、異丙醇 (IPA) 及各類有機溶劑。

2. 廠務系統與環境監控
超純水 (UPW) 監測： 確保清洗用水的金屬離子濃度符合半導體標準。

「送樣流程」
- 需求諮詢： 確認樣品型態、目標元素與偵測極限需求。
- 樣品採集/寄送： 提供潔淨採樣瓶 (PFA) 或協助現場採樣指導。
- 前處理 (Pre-treatment)： 於 Class 100 潔淨環境下進行前處理、稀釋。
- 上機分析： 使用 ICP-MS 進行數據採集校正。
- 數據審核與報告： 由資深分析師審核數據，出具正式分析報告。

從 ppm 到 ppb，精準捕捉微量有機雜質。

我們利用高解析氣相層析質譜儀 (GC-MS)，協助您快速鑑定液體化學品中的未知汙染物，確保製程潔淨度，極大化產品良率。

我們採用業界頂尖的 氣相層析質譜儀 (Gas Chromatography - Mass Spectrometry)，結合針對半導體化學品優化的前處理技術。
- 極限偵測能力： 可檢測低至 10 ~ 100 ppb 等級的微量有機雜質。
- 強大圖庫比對： 擁有最新的 NIST 質譜圖庫與半導體常用添加劑自建庫，快速鑑定未知物 (Unknown Peaks)。
- 多樣化進樣系統

1. 濕製程化學品監控 (Wet Process Chemicals)
- 針對 IPA (異丙醇)、Acetone (丙酮) 等關鍵清洗液。

直接將自來水轉化為高品質超純水，滿足您最嚴苛的實驗分析需求。

專為現代實驗室設計，結合了反滲透 (RO) 與離子交換技術，能直接以自來水 (Tap Water) 為水源，同時產出 RO 純水 與 超純水 (UPW) 。

- 卓越水質標準：超純水電阻率達 18.2 MΩ·cm (@25°C)，完全符合 GB/T6682-2008、ASTM、CAP、CLSI、EP 和 USP 等國際一級水質標準 。
- 智慧觸控操作：配備 5 英吋彩色觸控螢幕，選單式操作直觀易懂，即時顯示水質與系統狀態 。
- 全方位耗材管理：智慧監控 PP、活性碳、RO 膜、UV 燈、超純化柱 (UP) 等耗材壽命，自動提醒更換，確保水質穩定 。
- 雙波長 UV 殺菌與除 TOC：採用 185/254nm 雙波長紫外線燈。185nm 用於光解有機物 (降低 TOC)，254nm 用於殺菌與滅活微生物 。
- 終端過濾防護：可選配 PES 終端過濾器 (0.45+0.2µm)，有效去除顆粒物與細菌，防止空氣回流污染 。
- 國際安全認證：全系列通過 CE 與 FCC 認證，符合歐美市場安全規範 。

「應用領域 (Applications)」
超純水 (Ultrapure Water) 適用於：
- 精密儀器分析：HPLC (高效液相層析), LC-MS (液相層析質譜), IC (離子層析), GC-MS, ICP-MS 。
- 生命科學：PCR / RT-PCR (聚合酶連鎖反應), 哺乳動物與細菌細胞培養, DNA 微陣列, 電泳, Western Blot 。
- 微量分析：超痕量分析 (Ultratrace analysis), 試劑製備 。

Type III RO 純水 (Reverse Osmosis Water) 適用於：
- 玻璃器皿清洗/潤洗 。
- 高壓滅菌鍋 (Autoclave) 用水 。
- 恆溫水浴槽、加濕器用水 。
- 緩衝液製備的前期用水 。

- 多樣化材質選擇： 提供 PLA、ABS、PETG（耐用型），滿足結構強度或極致外觀的不同需求。
- 工業級精度：完美呈現模型細節，減少後製打磨時間。
- 快速交貨： 急件可討論處理機制，小批量生產最快 48 小時內出貨。

步驟:
1. 上傳檔案 (Upload) 直接上傳您的 .STL、.OBJ 或 .STEP 檔案。如果您沒有檔案，我們也提供簡單的建模諮詢。
2. 專人報價 (Quote) 我們將根據體積、耗時與材質進行評估，專人評估後回傳透明報價單。
3. 排程列印 (Print) 確認付款後立即排程。我們全程監控列印狀況，確保成品品質。

挑戰偵測極限。專為極低背景值 (Low Background) 與痕量元素分析 (Trace Analysis) 打造。

在痕量 (ppb) 與超痕量 (ppt) 級別的元素分析中，水是最關鍵的試劑。任何微量的背景干擾都會導致實驗數據偏差。

U-Trace+ 是 超微分析科技 針對高階分析儀器 (ICPMS / ICPQQQ) 開發的旗艦濾水設備。我們重新設計了純化流程，結合特規除硼樹脂與奈米級終端過濾，將特定元素（如硼、矽、鈉）與奈米顆粒降至業界最低水平，確保您的 ICP-MS 儀器發揮最佳性能。

「產品特色」
1. 極低背景值 (Ultra-Trace Elemental Background)
- 全系統採用低溶出材料，確保金屬元素（Na, K, Ca, Mg, Fe, Zn, Al 等）含量皆低於 2 ppt。
2. 奈米級微粒控制 (1nm / 5nm Particle Control)
- 一般的 0.22 µm (220nm) 濾膜無法阻擋膠體矽、膠體鐵等奈米顆粒，這些顆粒在 ICP-MS 進樣系統中會產生訊號噪聲與積碳。
- 標配加強型過濾：可選 1nm 或 5nm PES 終端濾心。
3. 業界領先的超強除硼能力 (Ultra-Low Boron)
- 標準離子交換樹脂難以有效去除水中的硼 (Boron)，因為硼在水中常以非離子態的硼酸分子存在。
- 專用除硼配方：我們採用針對 ICP-MS 優化的特規螯合樹脂 (Boron-Selective Resin)，能專一性吸附硼酸分子。
- 極致數據：將硼元素殘留量壓低至 < 5 ppt (parts per trillion) 級別，解決半導體與地質分析中常見的硼干擾難題。

專業級溫控首選｜精準恆溫．強力冷卻
適用於實驗室、精密儀器冷卻與各式恆溫需求的最佳解決方案

低溫循環水槽（Cooling Circulator）專為需要高精度溫度控制的實驗與工業應用設計。全系列採用微電腦 PID 自動控制系統，結合高效能壓縮機與不鏽鋼內槽，提供從低溫冷凍到高溫加熱的全方位恆溫環境。內建強力循環幫浦，不僅能確保槽內溫度均勻，更能對外部儀器進行外循環冷卻，一機多用。

產品核心特色
精準微電腦控制：採用微電腦全自動 PID 控制器，具備雙視窗 LED 顯示（設定溫度 / 實際溫度），操作直觀，控溫精度高達 ±0.1℃。

高效能外循環系統：內建循環幫浦（流量 7L/min），可將槽內恆溫液體輸出至外部儀器（如：冷凝管、反應槽、黏度計等）進行恆溫控制。

廣泛的溫控範圍：
- L 型 (超低溫版)：-20℃ 至 100℃
- H 型 (低溫版)：0℃ 至 100℃
- 標準型：-25℃ 至 150℃ (特定型號)

- 堅固耐用設計：內槽與浸沒部件全採用 SUS#304 不鏽鋼材質，耐腐蝕、易清潔，確保長久使用壽命。

全方位安全保護：
- 具備過溫保護裝置（Over Temperature Protection）。
- 壓縮機延遲啟動保護，延長機器壽命。
- 防爆觸摸式開關設計。

應用領域
- 實驗室分析儀器冷卻：AA、ICP、SEM、雷射儀器、旋轉濃縮機等。
- 生物技術與醫藥：發酵槽恆溫、酵素反應、樣品保存。
- 化學與材料：化學反應槽控溫、黏度測定、材料老化試驗。
- 一般恆溫用途：各類需要恆溫水浴或油浴之實驗。