專為半導體製程打造的 ppq 級極致檢測方案

我們提供業界領先的 ICP-MS (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 分析服務，具備極低的偵測極限與卓越的抗干擾能力，協助您精準監控原物料與製程化學品的潔淨度。

我們能同時分析週期表中絕大多數的金屬元素（如 Fe, Cu, Ni, Cr, Zn, Na, K 等），偵測極限可達 1 ppt (parts per trillion) 等級。

1. 濕製程化學品與原物料分析 (Wet Chemicals & Materials)
針對半導體廠使用的高純度化學品進行全元素掃描。
- 分析對象： 硫酸 (H₂SO₄)、雙氧水 (H₂O₂)、氨水 (NH₄OH)、氫氟酸 (HF)、異丙醇 (IPA) 及各類有機溶劑。

2. 廠務系統與環境監控
超純水 (UPW) 監測： 確保清洗用水的金屬離子濃度符合半導體標準。

「送樣流程」
- 需求諮詢： 確認樣品型態、目標元素與偵測極限需求。
- 樣品採集/寄送： 提供潔淨採樣瓶 (PFA) 或協助現場採樣指導。
- 前處理 (Pre-treatment)： 於 Class 100 潔淨環境下進行前處理、稀釋。
- 上機分析： 使用 ICP-MS 進行數據採集校正。
- 數據審核與報告： 由資深分析師審核數據，出具正式分析報告。