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ICPMS Cone 及 Torch 清洗治具

ICP-MS 關鍵組件專用清洗治具 (Cone 及 Torch) 守護精密核心，提升分析數據的穩定性 專為 Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry (ICP-MS) 設計的高純度 PTFE 清洗支撐平台。 在 ICP-MS 的日常維護中，Sample Cone（採樣錐）、Skimmer Cone（截取錐）與 Quartz Torch（石英矩管）是最昂貴且脆弱的關鍵組件。本清洗治具專為解決清洗過程中的風險而設計，提供一個穩固、抗強酸鹼的支撐平台。 它能確保組件在超音波清洗或酸液浸泡過程中，避免因碰撞造成精密孔徑損壞，同時大幅提升清洗效率與潔淨度的一致性。 1. 極致耐腐蝕材質 主體採用高純度 PTFE (聚四氟乙烯/鐵氟龍) 材質製造，具備極佳的化學惰性。 - 耐酸鹼：可完全耐受實驗室常用的高濃度酸液，包括硝酸 (HNO3)、鹽酸 (HCl)、氫氟酸 (HF)、硫酸 (H2SO4) 。 - 耐溶劑：適用於 IPA、PGMEA、PGME 等有機溶劑清洗。 2. 精密防護設計 - 懸空保護：治具特殊的凹槽設計，讓 Cone 的尖端朝上或懸空，確保極為精密的尖端孔徑絕不接觸底部表面，防止物理性磨損或碰撞變形。 - 穩固支撐：專屬的 Torch 長管固定座與 Cone 凹槽，確保翻轉或移動治具時組件不脫落，解決傳統燒杯清洗時組件互相碰撞的風險。 3. 提升清洗效率 - 超音波相容：結構穩固，可整組放入超音波清洗機中進行震盪清洗，讓清洗液均勻覆蓋組件內外。 - 操作便利：整合了進樣錐固定槽與火炬管固定架，一次完成多個關鍵組件的清洗流程。

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ICPMS 霧化器清洗治具

專為微量分析設計：安全復原霧化效率，徹底清除金屬、有機物與矽基質沉積。 在 ICP-MS 分析中，霧化器 (Nebulizer) 的阻塞與記憶效應是影響數據準確性的最大殺手。本清洗治具專為恢復霧化器效能而生，透過超純氮氣驅動的自吸作用 (Self-aspiration)，標準化地清除進樣管內累積的頑強附著物，讓您的設備重回最佳狀態。 1. 獨家安全防護設計 (Safety First) 操作強酸清洗不再提心吊膽。本治具配備特殊的接口設計，能注入廠務超純水 (Facility UPW) ，在霧化出口處直接溶解、帶走噴出的強酸氣霧，有效防止化學氣溶膠逸散，大幅提升實驗室操作安全性。 2. 高效自吸清潔系統 (Self-Aspiration Mechanism) 利用超純氮氣 (UHP Nitrogen) 產生穩定的負壓，以精確流速，引導高濃度清洗試劑流經微細的進樣管。相比傳統浸泡，流動式清洗能更徹底帶走管壁汙染物。 3. 標準化 SOP 流程支援 (Standardized Process) 告別憑感覺清洗。本治具搭配標準清洗程序，從酸液清洗到超純水 (UPW) 潤洗 (Rinse)，確保每次清洗效果的一致性。

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