實驗室設備 - 超微分析科技有限公司

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頂規無塵室專用海綿 / 海綿式無塵布 (Class 10 Cleanroom Sponge) - 抗靜電與不掉屑專用

產品介紹: 在先進半導體製程中，機台內部往往充滿了經過特殊噴砂處理的金屬表面。當工程師使用一般無塵布進行 PM (預防性保養) 時，極易發生「勾紗」現象，導致殘留的纖維屑成為致命的微粒汙染源。 為了解決這個痛點，這款頂規無塵室專用海綿 (Class 10 級) 應運而生。它結合了無塵布的擦拭便利性與海綿的高吸附力，在嚴格的製程控制下生產，確保批次間的品質一致性 (Lot-to-lot consistency) 。除了極低的微粒生成率，它也嚴格限制了陰陽離子 (如氯、硫酸根、鈉、金屬離子) 與有機物的殘留。我們提供塊狀海綿 (Sponge) 以及薄片狀海綿布 (Wiper) 兩種型態，甚至可搭配專用的無塵室研磨刷布 (ScrubPADs) 進行濕式深層清潔。 技術規格表 Spec:材質: 網狀親水性聚氨酯發泡 (Hydrophilic Polyurethane Foam) 適用環境: Class 10 無塵室 (Class 10 Wiper) 抗靜電性能 (ESD Performance): 表面電阻 (Surface Resistance): 1.710^9 ohms 體積電阻 (Volume Resistance): 1.110^10 ohms 摩擦起電 (Tribocharge): 擦乾時 < 8 volts 靜電消散時間: ±5 kv 降至 ±10 volts < 1.5 秒 潔淨度表現 (Cleanliness): 大型微粒/纖維掉落 (>25um): 0 氯離子 (Chloride): <6ug/cm^2 規格尺寸選型表 塊狀海綿 (Sponge) 0.37" x 2.62" x 4.37" 搭配刷布濕洗、機台死角吸水 塊狀海綿 (Sponge) 0.375" x 3.625" x 5.375" 大面積零件刷洗墊片 海綿布 (Wiper) 0.0625" x 9" x 9" 腔體牆面常規無塵擦拭 厚款海綿布 (Wiper) 0.109" x 9" x 9" 高吸液需求、重度油汙/溶劑擦拭 Target Applications (應用場景): 半導體前段製程: 晶圓傳輸腔體 (Wafer transfer chambers) 的無纖維擦拭。 設備 PM 保養: 粗糙、顆粒狀及噴砂表面金屬腔體的抗磨損清潔。 高階光學與面板: 靜電敏感玻璃基板與鏡片周邊設備的除塵保養。 生技醫藥廠房: 需要嚴格控制纖維落塵 (Fiber-free) 的無菌操作台或不鏽鋼槽體清潔。 聯繫我們取得報價資訊 Email: sales@ultra-trace.com

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UltraSOLV 頂規無塵室鑽石刷布 (ScrubPAD)

UltraSOLV 頂規無塵室鑽石刷布：無纖維與極低微粒釋放，半導體機台 PM 保養的革命性方案 產品介紹: 在半導體與高階光電製造中，機台反應腔體 (Process Chambers) 內累積的製程殘留物若未妥善清除，將嚴重影響產品良率。然而，使用傳統的工業菜瓜布 (ScotchBrite) 進行刷洗，往往會釋放高達百萬等級的微粒，並引入致命的金屬離子汙染。 UltraSOLV ScrubPAD 專利刷布系列徹底顛覆了傳統的腔體清潔方式。提供鑽石 (Diamond)等不同粗細度 (Grit) 的選擇。這些高效研磨材質能迅速且安全地移除附著於鋁、不鏽鋼、陶瓷、玻璃、石英與陽極氧化表面上的沉積物，同時將對機台部件的磨損降至最低。無論是 CVD 的陶瓷圓頂，還是高溫加熱區 (Heater blocks)，搭配 UltraSOLV® 專用海綿與無塵布，皆能打造完美的無塵室清潔閉環。 技術規格表 Spec: 產品系列: UltraSOLV® ScrubPAD, ErgoSCRUB®, ScrubDISK® 研磨材質 (Abrasives): 鑽石 (Diamond), 碳化矽 (Silicon Carbide), 氧化鋁 (Aluminum Oxide) 潔淨度表現 (微粒 >0.5u/cm^2): UltraSOLV® 系列僅產生1.4*10^3 ~ 17.3*10^3 微粒，遠低於傳統菜瓜布的1.5*10^6 。 ErgoSCRUB® 手柄與配件系統 (Handle Options): 優勢: 1. 極致的離子管控: 在鐵 (Iron) 殘留量測試中，傳統紅色菜瓜布高達 5950 ppm，而 UltraSOLV® 碳化矽刷布僅有 164 ppm，鑽石刷布更是低至 86 ppm 。 2. 提升 PM 效率: 大幅縮減清潔時間。例如，在清潔 AMAT DPS Poly/Lam 9400 機台時，能快速移除上下腔體的棕色或彩虹狀沉澱物。 Target Applications (應用場景): CVD 製程: AMAT & Novellus HDP 陶瓷圓頂與加熱區清潔。 蝕刻製程 (Etch): DPS Metal 與 Poly 上腔體的製程殘留物與彩虹紋去除。 離子植入 (Implant): AMAT 的離子源、射束線及 MRS 元件的高硬度沉積物刮除。 物理氣相沉積 (PVD/Sputter): 防護板 (Shield) 與腔體內部金屬沉積物的刷洗。 CMP 製程: AMAT Reflexion 與 Mirra Mesa 設備的表面殘留物清理 Email: sales@ultra-trace.com

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嚴選中古二手 SP-LUV7600 雙光束 UV-Vis 光譜儀 - 連續可調帶寬 (190~1100nm)

產品介紹: 對於追求高性能但受限於預算的實驗室而言，SP-LUV7600 嚴選中古 UV-Vis 光譜儀是完美的解決方案。這台儀器並非入門級單光束設備，而是具備雙光束與 1200條/mm 全像光柵的高階機型。 它覆蓋了 190nm 至 1100nm 的寬廣波長範圍，波長準確度達 ±0.3nm。機身配備 7 吋彩色觸控螢幕，操作直觀，可直接進行波長掃描、動力學測試與定量分析。更強大的是其 PC 連線功能，搭配的軟體不僅功能豐富，還可選配符合製藥業需求的審計追蹤 (Audit Tracking) 版本，提供完整的權限管理與操作溯源。此外，獨特的插入式氘燈/鎢燈設計，讓使用者在更換光源時無需進行繁瑣的光學除錯，隨插即用。 技術規格表 Spec: 型號: SP-LUV7600 光學系統: 雙光束光學系統 (Optical double beam system) 波長範圍: 190 nm ~ 1100 nm 光譜帶寬: 0.5 ~ 6.0 nm (連續可調) 波長準確度: ±0.3 nm 雜散光 (Stray Light): ≤0.03% (220nm, NaI; 360nm, NaNO2) 光源: Hamamatsu 長壽命氘燈 (Deuterium) & 長壽命鹵素鎢燈 (Tungsten) 操作介面: 7吋彩色觸控 LCD + PC 軟體控制 (USB) 掃描速度: 高 / 中 / 低 / 極低 (High / medium / low / very low) 光度準確度: ±0.002 Abs (0~0.5 Abs) ±0.004 Abs (0.5~1.0 Abs) ±0.3% T (0~100% T) 基線平坦度: ±0.0008 A 尺寸 (WDH): 600 * 470 * 220 mm (淨重 24kg) Target Applications (應用場景): 製藥分析: 原料藥成分鑑定與含量測定 (符合藥典要求)。 學術研究: 需要高解析度光譜掃描的材料科學與化學研究。 環境監測: 水質中微量汙染物的定量分析。 生化檢測: 酵素動力學 (Kinetics) 與蛋白質/DNA 濃度測定。 聯絡我們取得報價及更多資訊 Email: sales@ultra-trace.com

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