
15 nm Fe 奈米粒径校正标准品|Fe Nanoparticle Size Calibration Standard
Ultra Trace Analytics 提供 15 nm Fe nanoparticle standard,适用于 SEM、TEM、SP-ICP-MS、DLS、NTA 的粒径校正、方法开发与儀器确认。
材质: Lab-grade

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Ultra Trace Analytics 提供 15 nm Fe nanoparticle standard,适用于 SEM、TEM、SP-ICP-MS、DLS、NTA 的粒径校正、方法开发与儀器确认。
材质: Lab-grade

18.2 MΩ·cm Low Metal Ultrapure Water,符合半导体、微污染分析与高洁净实验室应用情境,可依需求提供典型规格与客制选项。
材质: Lab-grade

适用于半导体 UPW、DI water 与电子级化学品 polishing 的 ultralow metal resin,协助降低 Na、K、Ca、Mg、Fe、Cu、Zn、Ni、Al 等金属离子风险。
材质: Lab-grade

XJ 系列石墨消化儀 / 石墨消解儀采石墨加热体与立体包裹式加热设计,具分体式控制器、PID 数显控温与分段式设定,适用于酸消解、赶酸、ICP-MS 样品前处理、食品、土壤、制药、化工、冶炼与电子产品分析。提供多种消解位数与 PFA / PTFE 消解管选项,并可依需求定制。
材质: 石墨

低温循环水槽(Cooling Circulator / Refrigerated Heating Circulator)可提供冷卻、加热、内槽恆温与外部循环,适用于分析儀器冷卻、反应槽控温、冷凝系统、半导体研发与材料实验室温控应用。
材质: 不锈钢水浴槽 + 实验室级循环系统

Ultra Trace Analytics 提供预清洗 TOC 样品瓶(Pre-cleaned and Certified TOC Vial),40 mL clear glass vial 规格(27.5 × 95 mm),TOC 背景值 < 10 ppb 并附 Certificate of Analysis(CoA),适用于 TOC testing、USP <643>、纯水测试、清洁验证、validation standards 储存,以及制药与半导体水质监控流程。
材质: Clear glass vial + 24-414 PP cap + PTFE/Silicone septa

High-end Microfiber Cleanroom Wiper,符合半导体、微污染分析与高洁净实验室应用情境,可依需求提供典型规格与客制选项。
材质: Lab-grade

超纯水用除硼树脂(Boron Removal Resin for Ultrapure Water)为 Boron selective ion exchange resin,可用于半导体 UPW、DI water polishing、ICP-MS trace analysis 与低背景分析用水的终端抛光配置,协助降低 Boron 背景干扰。
材质: Boron selective chelating resin(可依型号与配置确认)

Ultra-trace Analytics 提供超高纯度电子级 IPA(High Purity Isopropyl Alcohol / Electronic Grade IPA),适用于半导体湿制程、晶圆清洗、IPA drying、高洁净实验室与微量污染控制。最高等级可达各金属元素 <1 ppt,实际规格依使用需求、分析项目与供应条件确认。
材质: 依等级确认

Ultra Trace Analytics 提供 AAO 奈米孔洞细胞培养基板(AAO Nanoporous Cell Culture Substrate),以规律 nanoporous anodic aluminum oxide 结构作为 cell culture nanotopography research platform,适用于细胞贴附、细胞形貌、biointerface、biosensing 与 high-resolution bioimaging 研究,并可讨论孔径、孔距、厚度、尺寸与表面处理。
材质: Anodic Aluminum Oxide (AAO)

CRDS 专用气体纯化器(CRDS Gas Purifier)适用于 CRDS 载气、零气、purge gas、CDA / XCDA 与高纯气体背景杂质控制。NX、NX-H、X 系列脱除深度可达 <1 ppb,XT 系列适用 CDA / XCDA,脱除深度可达 <0.01 ppb,可降低 H2O、O2、CO2、CO、H2、organics、TOC、acid、base 与 refractory compounds 等杂质风险。
材质: 高纯气体纯化系统

Ultra-trace Analytics 提供 GC 专用气体纯化器(GC Gas Purifier),可协助去除载气与侦测器气体中的氧气、水气与碳氢化合物,降低背景干扰、保护 GC column,适用于 GC、GC/MS、FID、TCD 与高洁净分析实验室。
材质: 依型号配置

ghost buster ii lc impurity trap column ghost peak适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

要做到 ppq / sub-ppt 超低背景 ICP-MS 分析,雾化器清洗治具是高洁净维护流程的必备工具之一。本产品可依市面各 ICP-MS 厂牌、型号与雾化器尺寸客制对应,协助建立标准化、可重复、低污染风险的雾化器清洗、漂洗、晾干与保存流程。
材质: Lab-grade

ICP-MS Torch 及 Cone 清洗治具可依市面各 ICP-MS 厂牌与型号的 Cone / Torch 尺寸客制对应,适用于 Sampler Cone、Skimmer Cone、Interface Cone 与 Torch 的酸洗、浸泡、漂洗、晾干与高洁净保存流程。
材质: Lab-grade

ICPMS gas purifier high quality low detection limit适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

ISO Laminar Flow Cabinet,符合半导体、微污染分析与高洁净实验室应用情境,可依需求提供典型规格与客制选项。
材质: Lab-grade

microplastic reference material适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

polyimide pi track etched membrane适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

Ultra-trace Analytics 提供 PTFE 托盘 / 防漏盘(PTFE Tray / PTFE Lab Pan / PTFE Spill Tray),采 PTFE 材质,一体制成无焊接,表面光洁且低吸附,适合用于高洁净实验室、半导体微量分析、酸碱化学品操作、样品暂置、容器承接与 secondary containment 应用。提供多种标准尺寸,亦可依需求讨论客制规格。
材质: PTFE

swcnt single wall carbon nanotube适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

track etch membrane pc适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

track etch membrane pet适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade

UPW system ro 18 2 m cm type i type iii适用于高洁净实验室与半导体/微量分析流程,支援样品处理与污染控制需求。
材质: Lab-grade
此分类涵盖多种日常所需项目,适合搭配既有流程进行整体配置。
若有特定场域需求,可进一步讨论材质、尺寸与使用方式。