微量化學分析 - 超微分析科技有限公司

GC-MS 超微量有機汙染分析服務

從 ppm 到 ppb，精準捕捉微量有機雜質。<br><br>我們利用高解析氣相層析質譜儀 (GC-MS)，協助您快速鑑定液體化學品中的未知汙染物，確保製程潔淨度，極大化產品良率。<br><br>我們採用業界頂尖的氣相層析質譜儀 (Gas Chromatography - Mass Spectrometry)，結合針對半導體化學品優化的前處理技術。<br>- 極限偵測能力：可檢測低至 10 ~ 100 ppb 等級的微量有機雜質。<br>- 強大圖庫比對：擁有最新的 NIST 質譜圖庫與半導體常用添加劑自建庫，快速鑑定未知物 (Unknown Peaks)。<br>- 多樣化進樣系統<br><br>1. 濕製程化學品監控 (Wet Process Chemicals)<br>- 針對 IPA (異丙醇)、Acetone (丙酮) 等關鍵清洗液。

ICP-MS 超微量元素分析服務

專為半導體製程打造的 ppq 級極致檢測方案<br><br>我們提供業界領先的 ICP-MS (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry) 分析服務，具備極低的偵測極限與卓越的抗干擾能力，協助您精準監控原物料與製程化學品的潔淨度。<br><br>我們能同時分析週期表中絕大多數的金屬元素（如 Fe, Cu, Ni, Cr, Zn, Na, K 等），偵測極限可達 1 ppt (parts per trillion) 等級。<br><br>1. 濕製程化學品與原物料分析 (Wet Chemicals & Materials)<br>針對半導體廠使用的高純度化學品進行全元素掃描。<br>- 分析對象：硫酸 (H₂SO₄)、雙氧水 (H₂O₂)、氨水 (NH₄OH)、氫氟酸 (HF)、異丙醇 (IPA) 及各類有機溶劑。<br><br>2. 廠務系統與環境監控<br>超純水 (UPW) 監測：確保清洗用水的金屬離子濃度符合半導體標準。<br><br>「送樣流程」<br>- 需求諮詢：確認樣品型態、目標元素與偵測極限需求。<br>- 樣品採集/寄送：提供潔淨採樣瓶 (PFA) 或協助現場採樣指導。<br>- 前處理 (Pre-treatment)：於 Class 100 潔淨環境下進行前處理、稀釋。<br>- 上機分析：使用 ICP-MS 進行數據採集校正。<br>- 數據審核與報告：由資深分析師審核數據，出具正式分析報告。