在 ICP-MS 的日常維護裡，Sample Cone / Skimmer Cone / Quartz Torch 是最容易影響量測品質、也最容易「被清壞」的三個關鍵零件：
清不乾淨 → 背景值高、記憶效應加重；
清洗方式不一致或碰撞 → Cone 孔徑受損、靈敏度下滑，甚至越清越糟。
Ultra-Trace 的 ICP-MS Sample Cone & Torch 專用清洗治具，目的就是把「清洗時的固定、浸泡、超音波」流程標準化：提供穩固支撐平台，降低超音波清洗時碰撞導致孔徑擴大/刮傷的風險，並讓每次清洗結果更一致。
你可能遇到的症狀：其實是 Cone / Torch 需要「標準化清洗」
以下狀況常見、而且多半會越拖越嚴重：
- 靈敏度逐步變差（同樣條件下 counts 下降）
- 背景值偏高、空白不乾淨
- 記憶效應（carryover）變嚴重：高濃度跑完，低濃度還殘留
- 氧化物/雙電荷干擾增加（視機台/條件而定）
- Torch 端 難以清潔、殘留晶體或結垢，拆裝不順
這時候「隨手泡酸、隨手刷」通常不是解法，因為 Cone 的孔徑與表面非常敏感，操作稍不一致就可能把孔徑越洗越大、或留下刮痕，直接影響靈敏度與穩定性。
1) 固定 Cone／Torch，避免超音波碰撞造成孔徑傷害
核心設計點是「穩固支撐」：把 Cone 與 Torch 放在指定槽位/固定座中，降低清洗時晃動、碰撞、孔徑受損的機率，讓清洗更可控。
2) 兼容常見零件材質與化學清洗液
適用對象包含 Sample Cone、Skimmer Cone（Pt/Ni）與 Quartz Torch（含一體式或可拆 injector）；治具材質為高純度 PTFE 或 PEEK，並標示可耐多種常用酸與溶劑（如 HNO₃、HCl、HF、H₂SO₄、IPA、PGMEA/PGME 等）。
＃這對實驗室很重要：你可以把「清洗液策略」與「固定方式」都 SOP 化，而不是每個人各洗各的
流程概覽
Step 1｜前處理：先把“可見污染”處理掉
Step 2｜安裝治具：最小接觸面積
Step 3｜浸泡＋超音波
Step 4｜沖洗：把殘酸徹底拿掉
Step 5｜乾燥：用乾淨氮氣吹乾孔洞與夾層
Step 6｜治具本體清潔與收納
＃詳細操作指引，請聯繫超微分析取得細節流程說明書。
導入後你會看到的改善
- Cone 清洗結果更一致：背景下降更穩、空白更乾淨
- 降低孔徑損傷風險：靈敏度衰退變慢、維護成本下降
- 記憶效應更可控：高濃度樣品後的 carryover 更容易被清乾淨
- Torch 清潔更規範：殘留晶體/結垢導致的拆裝不順機率下降
Troubleshooting
零件在治具中晃動：固定座未鎖緊或治具規格不符 → 重新調整固定位置並確認型號相容。
清洗後背景仍高：治具本體可能被污染 → 依說明書建議，可將「空治具」以 10% HNO₃ 浸泡清洗。
Torch 難插入/拔出：治具孔徑可能有結晶堆積 → 以溫熱 DI Water 浸泡溶解結晶。
FAQ
Q1：為什麼超音波只建議 1–2 分鐘？
A：超音波時間過長可能擴大 Cone 孔徑，造成靈敏度下降；污染嚴重時建議更換清洗液後重複短時間清洗。
Q2：Cone 孔徑可以用刷子清嗎？
A：不建議。孔徑精密，避免硬物接觸，也不建議用金屬刷具，以免刮傷或改變孔徑形貌。
Q3：治具本身需要保養嗎？
A：需要。定期檢查治具是否裂痕/磨耗、避免交叉污染；清洗治具時用溫和清潔方式，避免研磨性工具。