ICP-MS 做到 ppb/ppt 等級時，**霧化器（Nebulizer）**一旦有金屬殘留、有機碳沉積或矽基質附著，就會出現背景升高、重現性變差、甚至進樣不順/堵塞等問題。這類問題往往不是方法本身，而是「進樣系統的污染與附著」導致的假訊號（false positive）與記憶效應。
什麼狀況代表你需要清洗霧化器？
你可能會遇到這些典型症狀：
- 背景值拉不下來（空白/低濃度標準也偏高）
- 記憶效應變嚴重（跑完高濃度樣品後，低濃度樣品仍殘留）
- 訊號飄、RSD 變大（同一樣品重複量測不穩）
- 進樣變慢、霧化效率下降（甚至堵塞、背壓異常）
這時候「不規律、不可重現」的隨意清洗，反而會讓你每次背景都不一樣；更好的做法是導入可複製的 SOP。
霧化器清洗治具怎麼解決問題？
1) 用「超純氮氣自吸」讓清洗更一致
治具利用超純氮氣建立自吸負壓，把清洗液以一致的方式帶過霧化器內部管路
2) 用 PFA Spray Chamber＋廢液導流，降低操作污染與逸散風險
以PFA spray chamber、end cap 與廢液導流系統，使廢液出口正確導入酸性廢液端。
3) 導入廠務 UPW，協助吸附/稀釋酸性氣溶膠
利用 廠務超純水在 霧化器出口，吸附/稀釋噴灑出的強酸氣溶膠、降低化學氣霧逸散。
一套「對應污染類型」的 3 階段清洗流程
第 1 階段：去除金屬附著物
第 2 階段：去除有機碳沉積
第 3 階段：去除矽基質（Si-matrix）與玻璃化沉積
清洗完成後，怎麼確認「已恢復可用」？
建議在收尾時：
- 讓進樣管離開所有試劑後，懸空自吸空氣約 1–2 分鐘，把管內水份排乾。
- 外觀檢查：尖端與進樣管應通透、無結晶殘留。
- 將霧化器裝回 ICP-MS 前做 背壓測試（Backpressure Check），確認無阻塞。
Q1：為什麼清洗要分成金屬/有機/矽基質三段？
A：因為附著物的化學性質不同，單一清洗液很難同時有效處理金屬離子、有機碳沉積與矽基質附著；SOP 以不同試劑分段處理並穿插 UPW rinse，可提高去除效率與可重現性。
Q2：清洗後最常被忽略的是什麼？
A：最後的 UPW rinse 與乾燥/背壓確認。建議清洗後 UPW 再清洗 10–15 分鐘，並於收尾自吸空氣 1–2 分鐘排乾、再做背壓測試。
Q3：霧化器清洗治具的關鍵差異是什麼？
A：用超純氮氣固定流量建立自吸負壓、搭配 spray chamber 廢液導流，並透過 導入廠務 UPW 來降低酸霧逸散，讓流程更標準化、更容易在不同人/不同班別重現。
與我們合作
如果你遇到 ICP-MS 背景值偏高、記憶效應嚴重、霧化器堵塞/背壓異常，我們可以提供：
- 清洗治具導入建議（含管路配置、流程標準化）
- 依你樣品矩陣（高鹽/高矽/有機）建議清洗策略與驗證方式
- 協助建立「清洗前後」的 QC 指標（空白、重現性、背壓、carryover）
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