18.2 MΩ·cm 不等於分析端零干擾
在 ICP-MS、ICP-QQQ 與半導體微污染分析中，水不只是溶劑，而是會直接影響 method blank、detection limit 與數據穩定性的關鍵試劑。即使已有 18.2 MΩ·cm 超純水，末端管路、儲水段、樹脂老化、微粒或副產物仍可能帶入 Na、K、Ca、Fe、Zn、B、Si 背景。
应用场景
ICP-MS / ICP-QQQ 用水終端拋光Trace metal analysis water polishingMethod blank reductionSemiconductor micro-contamination analysisPFA labware 最終沖洗水標準液與樣品稀釋用水
可选规格
欢迎提供场景、材质、容量或尺寸需求，我们可协助确认方案。
产品说明
PuriLab 超純水盒（PuriLab UPW Box Ultra Clean PPQ）為 Point-of-Use 終端拋光純化模組，可安裝於既有 UPW 或 18.2 MΩ·cm 超純水系統後端，協助降低 ICP-MS / ICP-QQQ / GFAAS 與半導體微污染分析中的金屬、硼、矽與奈米微粒背景干擾。
PuriLab 超純水盒｜ICP-MS 終端拋光純水模組
PuriLab 超純水盒（PuriLab UPW Box Ultra Clean PPQ）定位為 Point-of-Use polishing box / terminal UPW polishing module，針對 ICP-MS、ICP-QQQ、GFAAS、trace metal analysis 與半導體微污染分析情境，提供既有 UPW 或實驗室超純水機後端的最後一道水質拋光。可作為 ICP-MS blank water、標準液稀釋、PFA 容器最終沖洗與低背景樣品製備用水的加值模組，協助降低金屬、Boron、Silicon 與奈米微粒背景干擾。
為什麼 ICP-MS 與半導體微污染分析需要終端拋光？
PuriLab 作為最後一段風險控管
PuriLab 超純水盒可串接在現有水源與分析流程之間，作為 point-of-use terminal polishing module，有助於降低最後一段水路造成的背景污染風險，並支援高階 trace analysis 的方法穩定性管理。
PuriLab 超純水盒四大價值
Point-of-Use 終端拋光
不需取代既有純水系統，可安裝於 Facility UPW、DI water 或 18.2 MΩ·cm lab ultrapure water 後端，作為 ICP-MS/ICP-QQQ 分析前最後純化屏障。
ppt 級背景控制導向
採低溶出材料與拋光介質配置，有助於降低 Na、K、Ca、Mg、Fe、Zn、Al 等常見背景元素；目標金屬背景可參考 < 2 ppt，實際需依進水水質、流量與配置確認。
Boron / Silicon 特定元素控制
可依需求搭配 boron removal media 與針對 Silicon / colloidal silica 的拋光配置；目標 Boron < 5 ppt、Silicon < 10 ppt 屬參考目標，仍需依條件驗證。
1 nm / 5 nm 奈米終端過濾選項
可選 1 nm / 5 nm terminal filtration option，有助於降低 colloidal silica、colloidal iron 與奈米級微粒對 method blank 與數據穩定性的干擾風險。
應用場景（Application Scenarios）
ICP / Trace Analysis
- • ICP-MS 用水終端拋光
- • ICP-QQQ trace metal analysis
- • GFAAS 高階微量分析
- • Method blank reduction
- • ICP-MS blank water / trace analysis water
半導體與微污染分析
- • Semiconductor micro-contamination analysis
- • 半導體 UPW / DI water 進樣前拋光
- • 晶圓表面污染分析前處理
- • VPD / ICP-MS 分析用水
- • SERS / SEPS 微污染分析前處理
高潔淨樣品製備
- • PFA labware 最後沖洗水
- • 標準液與樣品稀釋用水
- • 超低背景酸液稀釋前處理
- • 製藥與高階 QC 實驗室 trace analysis
- • 奈米微粒與膠體污染控制
系統整合與導入
- • 可安裝於廠務 UPW 出水口或桌上型純水機後端
- • 可部署於 ICP-MS 前處理區與低背景樣品製備區
- • 可依流量、空間、接口、監測點位進行客製配置
- • 支援現場測試與前後端水質比較討論
選型 / 導入建議
為讓 PuriLab 超純水盒更有效支援 ICP-MS ultrapure water 與 low metal ultrapure water 需求，建議於導入前先確認以下條件。
- ☑ 目前進水來源：Facility UPW、DI water 或桌上型純水機
- ☑ 目前痛點：金屬、硼、矽、TOC、微粒或 blank 不穩定
- ☑ 目標方法：ICP-MS、ICP-QQQ、GFAAS 或其他 trace analysis
- ☑ 每日用水量與瞬間流量需求
- ☑ 是否需要 1 nm / 5 nm 終端過濾
- ☑ 是否需要現場測試或前後端水質比較
- ☑ 是否需要 CoA、背景測試或導入驗證文件
典型規格 / 目標規格（可依配置確認）
| 產品名稱 | PuriLab 超純水盒 |
|---|---|
| 英文名稱 | PuriLab UPW Box Ultra Clean PPQ |
| 產品類型 | Point-of-Use UPW polishing box / 終端超純水拋光模組 |
| 建議進水 | Facility UPW、DI water、18.2 MΩ·cm lab ultrapure water |
| 適用分析 | ICP-MS、ICP-QQQ、GFAAS、trace metal analysis、micro-contamination analysis |
| 目標金屬背景 | ppt level；可參考 < 2 ppt，需依進水水質與配置確認 |
| 目標 Boron 背景 | 可參考 < 5 ppt，需依進水水質與配置確認 |
| 目標 Silicon 背景 | 可參考 < 10 ppt，需依進水水質與配置確認 |
| 微粒控制 | 1 nm / 5 nm terminal filtration option |
| 過濾材質 | High-purity PES 或低溶出終端濾膜，依配置確認 |
| 純化介質 | 低溶出 polishing resin / chelating resin / boron removal media，依配置確認 |
| 安裝方式 | 桌上型、壁掛式或管路末端串接 |
| 出水用途 | ICP-MS blank、稀釋水、PFA 容器最終沖洗水、trace analysis 用水 |
| 文件 | 可依需求討論 CoA、背景測試資料、安裝建議與現場測試 |
| 客製項目 | 流量、接口、濾芯配置、樹脂配置、安裝方式、監測點位 |
註：以上為典型或目標規格示意，實際表現需依進水水質、流量、使用條件、配置與驗證方法確認。
PuriLab 超純水盒不是取代既有 UPW 或超純水機的大型主機，而是分析端最後一段 terminal UPW polishing module。歡迎提供進水條件、目標元素與方法需求，討論最適配置。
FAQ
PuriLab 超純水盒是什麼？
PuriLab 超純水盒是面向 ICP-MS、trace analysis 與半導體微污染分析的 Point-of-Use 終端拋光模組，可串接於既有 UPW / DI water / 18.2 MΩ·cm 系統後端。
和一般 18.2 MΩ·cm 超純水機有何不同？
18.2 MΩ·cm 通常描述電阻率指標；PuriLab 著重分析端末段背景控制，針對低金屬、低硼、低矽與奈米微粒風險做加值拋光，兩者可互補搭配。
為什麼 ICP-MS 還需要 point-of-use polishing？
末端管路與使用環境仍可能導入背景干擾。終端拋光可放在分析前最後一段，有助於降低 method blank 波動並提升資料穩定性。
可降低哪些背景元素？
常見目標包含 Na、K、Ca、Mg、Fe、Zn、Al，以及特定情境下的 Boron、Silicon 與膠體微粒；實際效果需依進水與配置確認。
Boron 與 Silicon 可以進一步控制嗎？
可依需求搭配 boron removal 或 silicon/colloidal silica 控制配置；常用參考目標為 B < 5 ppt、Si < 10 ppt，但需以實際條件與驗證數據確認。
金屬背景 < 2 ppt 是固定保證值嗎？
不是固定保證值。< 2 ppt 屬目標規格或參考目標，實際結果會受進水水質、流量、耗材狀態、採樣方式與分析方法影響。
1 nm / 5 nm 終端過濾適合哪些應用？
適合 nano-particle control、colloidal silica / colloidal iron 風險控管、半導體微污染分析與高潔淨樣品製備流程。
可以接在既有 UPW 或桌上型純水機後端嗎？
可以。此產品設計重點即為終端加裝模組，常見安裝點包括廠務 UPW 出水口、實驗室純水機後端與分析前處理區。
是否適合半導體微污染分析或 VPD / ICP-MS？
適合用於 semiconductor micro-contamination analysis、VPD / ICP-MS 用水與低背景樣品製備流程，導入前建議先確認目標元素與方法條件。
是否可用於 PFA 容器最後沖洗？
可作為 PFA labware 最後沖洗水來源之一，有助於降低容器沖洗步驟中的背景污染風險。
導入前建議提供哪些資料？
建議提供進水來源與近期水質數據、目標元素/方法、日用水量與尖峰流量、安裝空間與接口條件，以及文件需求（如 CoA 或驗證資料）。
可以申請現場測試或前後水質比較嗎？
可依專案條件討論現場測試與前後端水質比較方案，協助評估導入效益與配置可行性。
詢問 PuriLab 超純水盒規格 / 報價 / 導入建議
Ultra Trace Analytics 熟悉 ICP-MS 與半導體微污染分析用水痛點，可協助您從水質問題、儀器需求與應用場景評估終端拋光方案。