同一个异常可能来自不同污染类型
制程缺陷、残留、异常背景、浊度变化或批次差异，可能来自金属、有机物、离子、粒子或多种污染源交互影响。需要依问题选择合适分析技术。
应用场景
半导体化学品分析制程污染排查供应商材料验证批次差异比较
可选规格
欢迎提供场景、材质、容量或尺寸需求，我们可协助确认方案。
产品说明
Ultra-trace Analytics 提供液体化学品超微量分析服务，适用于各类半导体化学品、高纯酸碱、电子级溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电鍍液与制程液体。可依样品与分析目的评估 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 等技术，分析金属、有机物、离子与粒子相关污染。
液体化学品超微量分析
整合 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 等技术，协助解析半导体化学品中的微量污染来源。Ultra-trace Analytics 针对各类半导体化学品、高纯酸碱、电子级溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电镀液与制程液体，依样品基质与分析目的评估合适的分析技术，协助检测与判读金属元素、有机污染物、离子污染物、粒子 / 纳米粒子相关指标与其他制程污染线索。
半导体液体化学品的污染问题，通常不是单一仪器能完整回答
高纯化学品中的污染浓度非常低
半导体化学品常需要追踪 ppb、ppt，甚至更低浓度等级的污染线索。空白控制、容器洁净、前处理方式与样品基质会直接影响结果可信度。
不同基质会造成不同分析干扰
酸、碱、溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电镀液与配方液的基质差异很大，可能影响仪器选择、前处理条件、检出能力与报告判读。
只看 COA 不一定能解释制程异常
供应商 COA 通常针对固定规格项目，但制程异常可能来自非规格内污染、未知有机峰、离子残留、粒子变化或容器与管线导入的污染。
以问题导向设计的液体化学品超微量分析服务
多技术整合评估
可依样品与问题类型评估 GC-MS、ICP-MS / ICP-MS/MS、DMA-CPC、IC 等分析技术，不只局限于单一仪器。
半导体化学品导向
适用于高纯酸碱、电子级溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电镀液、制程添加剂与其他半导体液体化学品。
污染类型分类
可依需求评估金属污染、有机污染、离子污染、粒子 / 纳米粒子相关指标与批次差异。
低背景污染控制思维
重视样品容器、blank、试剂、前处理、操作环境与方法限制对结果的影响。
异常排查与比较分析
可协助 good sample / bad sample、不同批次、不同供应商、制程前后样品与 reference sample 的比较。
报告与技术讨论
可依委测范围提供结果判读、可能污染方向、方法限制与后续分析建议。
應用情境
可评估的分析技术
- • ICP-MS / ICP-MS/MS：金属元素、元素杂质、trace metals analysis
- • GC-MS：有机污染物、溶剂杂质、未知有机峰
- • DMA-CPC：粒子 / 纳米粒子相关指标（依样品条件确认）
- • IC（Ion Chromatography）：阴离子 / 阳离子污染物
- • 其他方法：依问题与基质可行性评估
适用样品与基质
- • 高纯酸碱：HF、HCl、HNO3、H2SO4、H3PO4、NH4OH、TMAH（依安全性确认）
- • 电子级溶剂：IPA、Acetone、PGMEA/PGME、nBAC、OK73 等
- • 水与清洗液：UPW / DI water、Rinse water、清洗液、制程水样
- • 制程液体：Etchant、Stripper/Remover、Plating bath、Slurry 上清液等
- • 品质与异常排查：good sample / bad sample、不同比较样品
液体化学品超微量分析流程
- • Step 1 需求与样品信息确认
- • Step 2 技术路线评估
- • Step 3 样品接收与前处理
- • Step 4 仪器分析
- • Step 5 QC 与数据检查
- • Step 6 报告交付与技术讨论
可提供的报告内容
- • 样品信息、分析技术、分析结果与表示方式
- • 方法摘要、QC 或比较信息（依委测范围）
- • 备注与限制：基质干扰、blank 背景、未知峰比对限制等
- • 后续建议：污染来源假设或下一步分析方向
送样前，建议先提供这些信息
不确定该用 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC 还是 IC？请提供样品 SDS、分析目的与目标污染物，我们可协助评估合适的分析技术组合。
- ☑ 样品名称与用途
- ☑ SDS 或主要成分信息
- ☑ 样品类型（酸、碱、溶剂、水样、清洗液、蚀刻液、电镀液、slurry 或其他制程液体）
- ☑ 分析目的（品质确认、供应商比较、制程异常排查、未知污染追踪等）
- ☑ 目标污染物（金属、有机物、离子、粒子或未知污染）
- ☑ 预期浓度范围或规格要求
- ☑ 是否有 good sample / bad sample、reference sample 或 blank 样
- ☑ 样品量与可提供瓶数
- ☑ 安全信息（腐蚀性、挥发性、可燃性、毒性、反应性等）
- ☑ 是否需要特定单位、报告格式、QC 项目或客户规格比对
服务范围与需求确认
| 服务名称 | 液体化学品超微量分析 |
|---|---|
| 英文名称 | Liquid Chemical Ultra-trace Analysis Service |
| 适用技术 | GC-MS、ICP-MS / ICP-MS/MS、DMA-CPC、IC 等，依样品与分析目的确认 |
| 适用样品 | 各类半导体化学品、高纯酸碱、电子级溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电镀液、制程液体 |
| 可分析方向 | 金属元素、有机污染物、离子污染物、粒子 / 纳米粒子相关指标、批次差异与制程异常线索 |
| 适用产业 | 半导体、高纯化学品、电子材料、化学工业、高洁净实验室、材料研发与品保 |
| 服务内容 | 送样评估、样品前处理、仪器分析、数据检查、报告交付与技术讨论 |
| 需求信息 | 请提供样品名称、SDS、主要成分、目标污染物、分析目的、样品量、安全信息与报告需求 |
本服务之实际分析能力需依样品基质、目标污染物、浓度范围、前处理方式、blank 控制、仪器条件与方法可行性确认。若需 ppb、ppt 或更低浓度等级之分析，请先提供目标规格与样品条件进行评估。
不同技术的适用性、检出能力与报告形式差异很大。请提供样品 SDS、主要成分、目标污染物、预期浓度范围与分析目的，以便确认最合适的分析组合。
整合型超微量分析與單一儀器委測的差異
單一儀器委測
- • 針對明確污染類型進行分析
- • 例如 ICP-MS 分析金屬、GC-MS 分析有機物、IC 分析離子
- • 適合已知道目標污染物或已有明確規格的樣品
- • 報告方向通常較聚焦
液體化學品超微量分析
- • 從樣品問題與製程異常出發
- • 可評估 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 等多技術組合
- • 適合未知污染、批次差異、供應商比較與製程異常排查
- • 可依結果討論後續分析、方法開發或污染來源追蹤方向
FAQ
液体化学品超微量分析可以分析哪些样品？
本服务适用于各类半导体化学品与高洁净液体，例如高纯酸碱、电子级溶剂、UPW、清洗液、蚀刻液、电镀液、制程添加剂与其他液体样品。实际是否可分析需依 SDS、基质、安全性与分析目的确认。
这项服务会使用哪些分析技术？
可依样品与污染问题评估 GC-MS、ICP-MS / ICP-MS/MS、DMA-CPC、IC 等技术。GC-MS 常用于有机污染方向，ICP-MS 常用于金属元素方向，IC 可用于离子污染方向，DMA-CPC 可依方法评估粒子或纳米粒子相关指标。
半导体化学品为什么需要超微量分析？
半导体制程对金属、有机物、离子与粒子污染都很敏感。即使主成分规格合格，微量污染或批次差异仍可能影响制程稳定性、缺陷率、清洗效果或材料导入结果。
可以做到 ppt 或 ppb 等级分析吗？
视样品基质、目标污染物、前处理方式、blank 控制、仪器条件与方法可行性，有些项目可评估 ppb、ppt 或更低浓度等级。实际可达能力需依样品与测试结果确认。
如果不知道污染物是金属、有机物还是离子，该怎么办？
可以先提供样品背景、异常现象、制程位置、SDS 与是否有 good sample / bad sample。Ultra-trace Analytics 可依问题协助评估适合的分析技术组合。
GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 有什么不同？
GC-MS 主要用于有机污染与未知有机峰分析；ICP-MS 主要用于金属元素与元素杂质分析；IC 主要用于离子污染分析；DMA-CPC 可依方法评估粒子或纳米粒子相关指标。实际选择需依样品与问题确认。
可以比较不同批次或不同供应商的化学品吗？
可以依委测需求讨论批次比较或供应商比较。建议提供多个批次、reference sample、good sample / bad sample 或使用前后样品，以便比较差异与异常讯号。
送样前需要提供哪些资料？
建议提供样品名称、SDS、主要成分、分析目的、目标污染物、预期浓度范围、样品量、安全信息、是否有对照样与报告需求。若样品具腐蚀性、挥发性、可燃性、毒性或反应性，需提前说明。
需要评估半导体液体化学品中的微量污染？
请提供您的样品 SDS、主要成分、分析目的、目标污染物、预期浓度范围与是否有对照样。Ultra-trace Analytics 可协助评估 GC-MS、ICP-MS、DMA-CPC、IC 等分析技术组合，并提供适合的委测分析方案与报价。