專為 ICP-MS 與微量元素分析打造的旗艦級純水系統。
U-Trace+ 結合特規除硼樹脂與奈米級過濾技術，將金屬背景值降至 < 2 ppt，硼元素 < 5 ppt。
有效解決微汙染干擾，確保半導體與高階實驗室的數據精準度。

產品特色:
終端強化拋光 (Point-of-Use Polishing): 專為提升既有水源品質設計，適合安裝於廠務純水出水口或一般超純水機後端，作為進樣前的最後純化保障。
極低背景值 (Ultra-Trace Background): 專為 PPT (Parts Per Trillion) 級別分析設計，全系統低溶出材料，金屬元素 (Na, K, Fe, Zn 等) < 2 ppt。
業界領先的除硼能力 (Boron Removal): 採用 ICP-MS 優化特規螯合樹脂，突破一般純水機極限，將硼殘留壓低至 < 5 ppt。
奈米級微粒控制 (Nano-Particle Control): 標配 1nm / 5nm 終端過濾，有效攔截膠體矽與膠體鐵，消除進樣系統積碳與背景噪聲。

產品介紹: 在微量 (ppb) 與超微量 (ppt) 級別的元素分析中，水不僅是溶劑，更是決定實驗成敗的最關鍵試劑。
然而，一般的廠務純水系統 (UPW Loop) 或標準桌上型純水機，往往在經過管路輸送或儲存後，會因為管路溶出或細菌滋生而無法達到 ICP-MS 所需的極致純度。

U-Trace+ 是 超微分析科技 (Ultra-trace Analytics) 專為解決此問題開發的「終端拋光設備」。
它不需取代您現有的純水系統，而是直接安裝在廠務純水出水口或是實驗室桌上型純水機之後。透過專利級的除硼樹脂與先進的奈米過濾技術，
U-Trace+ 能攔截前端系統遺漏的特定元素（如硼、矽、鈉）與奈米顆粒，確保進入儀器的最後一滴水皆達到業界最低背景值，讓您的分析數據精準無誤。

技術規格表 Spec:
建議進水水源: 廠務純水系統 (Facility UPW) 或 實驗室桌上型超純水機
適用儀器: ICP-MS, ICP-QQQ, GFAAS (高階微量分析專用)
金屬元素背景值: < 2 ppt (ng/L) (含 Na, K, Ca, Mg, Fe, Zn, Al 等)
硼 (Boron) 殘留量: < 5 ppt (ng/L) (領先業界標準)
矽 (Silicon) 殘留量: < 10 ppt (有效去除膠體矽)
微粒過濾 (Particle): 1 nm 或 5 nm (選配)
濾心材質: 高純度 PES

安裝方式: 桌上型 / 壁掛式 (可直接串接於既有純水管路末端)

歡迎聯繫 超微分析科技 (Ultra-trace Analytics) 取得產品報價 Email: sales@ultra-trace.com
可申請現場測試。