SKF TKRT 10 雙模轉速計：確保 Spin Coater 與 Wafer Chuck 轉速精準度，守護製程良率

產品特色:
非接觸雷射測量 (Non-Contact Laser): 專為潔淨室 (Cleanroom) 環境設計，可在不接觸晶圓載台 (Wafer Chuck) 的情況下，透過反光貼紙精準讀取轉速，完全杜絕金屬汙染與微粒產生。
寬廣的測量範圍 (Wide Range): 最高支援 99,999 r/min，完美涵蓋高轉速的光阻塗佈 (Spin Coating) 與低轉速的顯影 (Development) 或 CMP 製程需求。
高精度校驗 (Calibration Standard): 精度達 ±0.05%，可作為設備機台內建轉速感測器 (Encoder) 的第三方驗收與校正標準。

產品介紹:
在半導體黃光與濕製程中，晶圓載台 (Wafer Chuck) 的轉速穩定性直接決定了產品的良率。特別是在旋轉塗佈 (Spin Coating) 製程，轉速 (RPM) 是控制光阻膜厚 (Film Thickness) 與均勻度 (Uniformity) 的最關鍵參數。一旦機台馬達老化或皮帶鬆弛導致實際轉速與設定值產生偏差，將直接導致膜厚異常或 TTV超標。

SKF TKRT 10 是設備工程師進行機台 PM 與製程除錯的最佳工具。針對無塵室應用，其雷射測量模式允許工程師在安全距離外，透過視窗或在機台維護模式下，精準量測 Wafer Chuck 的實際轉速，確認馬達輸出是否線性。對於 CMP 或 Wet Bench 等製程，亦可使用接觸式探頭進行驅動軸檢測。SKF TKRT 10 協助您消除轉速飄移的變因，確保每一片晶圓的製程條件一致。

技術規格表 Spec:
顯示螢幕: 5 位數 LCD 液晶顯示器，具備背光功能
轉速測量範圍 (雷射光學): 3 至 99,999 r/min
轉速測量範圍 (接觸式): 2 至 20,000 r/min
測量距離: 50 mm 至 500 mm
測量精度: ±0.05% (讀數 + 1 位數)
防護等級: IP 40
操作溫度: 0 至 50 °C

Target Applications (應用場景):
光阻塗佈機 (Spin Coater): 定期校正 Chuck 轉速，確保光阻厚度與均勻度符合製程規範 (Process Window)。
化學機械研磨 (CMP): 測量研磨頭 (Head) 與研磨墊 (Platen) 的旋轉速度，控制移除率 (Removal Rate)。

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