ICP-MS 方法開發與轉移服務：破解複雜基質干擾，從 PPT 痕量分析到法規驗證的完整解決方案

服務特色:

複雜基質突破 (Complex Matrix Solutions): 專精於處理高難度樣品，包括 高腐蝕性酸 (HF, H2SO4)、高揮發性有機溶劑 (IPA, NMP, Acetone) 以及 高黏度光阻液。透過優化的前處理 (Pre-treatment) 與進樣系統配置，克服基質效應與積碳問題。

客製化干擾消除 (Interference Removal): 針對特定元素的質譜干擾 (如 56Fe 的 ArO 干擾、31P 的 NOH 干擾)，開發最佳化的 碰撞/反應池 (KED/DRC) 模式 或 冷電漿 (Cool Plasma) 條件，顯著降低背景等效濃度 (BEC)。

全套方法轉移: 不僅提供測試報告，更提供完整的 SOP (標準作業程序)、確效報告 (Validation Report) 與 人員教育訓練，確保該方法能在客戶端的儀器上重現。

服務介紹:
購買了昂貴的 ICP-MS 只是第一步，如何讓它測得準、測得穩，才是實驗室面臨的最大挑戰。當您遇到「加標回收率 (Spike Recovery) 不佳」、「背景值過高無法滿足 SEMI 標準」或「新法規導入困難」時，您需要的是專家的技術支援。

我們協助您建立從 樣品製備 (Sample Prep) 到 數據分析 的標準流程。無論是針對 12 吋晶圓廠要求的 ppt級金屬汙染監控，還是藥廠所需的元素不純物分析，我們都能為您量身打造符合法規的檢測方法，並協助您完成方法確效 (IQ/OQ/PQ 協助)，讓您的數據禁得起稽核。

服務流程與內容 (Service Workflow):

需求評估 (Feasibility Study):
確認目標分析物與偵測極限 (MDL/LOQ) 需求。
評估樣品基質 (Matrix) 特性與潛在干擾。

方法開發 (Method Development):
前處理優化: 酸消化、稀釋或揮發測試。
儀器參數優化: RF 功率、載氣流速、採樣深度、透鏡電壓調整。
干擾排除: 選擇最佳的反應氣體 (H2/He/NH3/O2) 與質量數模式。
方法確效 (Method Validation):
線性、準確度、精密度。
偵測極限 (MDL) 驗證。
技術轉移

Target Applications (應用場景):
半導體化學品 (SEMI F57): 高純度 UPW, IPA, H2O2, H2SO4, NH4OH 的超痕量金屬分析方法建立。
環境與食品: 土壤、汙泥、食品中的重金屬檢測 (NIEA 方法優化)。
新材料研發: 鋰電池電解液、稀土材料、奈米材料的成分分析。

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