產品特色:
全光譜氣體支援 (Wide Gas Compatibility): 提供針對不同氣體特性的專用純化管柱 (Cartridge)。
惰性氣體系列: Ar (氬氣), He (氦氣), Xe (氙氣), Ne (氖氣), N2 (氮氣)。
反應氣體系列: H2 (氫氣), NH3 (氨氣), O2 (氧氣)。

< 1 ppb 的超低雜質輸出 (Ultra-Low Impurities): 採用高階吸氣劑 (Getter) 或催化吸附技術，能將氣體中的 O2, H2O, CO, CO2, THC (烴類) 等關鍵雜質去除至 < 1 ppb (部分型號可達 < 100 ppt)，確保進入 ICP-MS 的氣體達到 9N 純度。

穩定電漿與消除干擾 (Stable Plasma & Interference Removal):
純化後的氬氣能產生更穩定的電漿 (Plasma)，減少氧化物 (ArO+)、氫化物與碳基的多原子光譜干擾 (Polyatomic Interference)，顯著改善背景等效濃度 (BEC)。

產品介紹:
在 ICP-MS (感應耦合電漿質譜儀) 的痕量分析中，氣體純度是決定數據品質的「關鍵」。鋼瓶氣體即使標示 5N/6N，經過長距離管路輸送後，仍可能受到水氣與管路釋氣的二次汙染。這些微量雜質 (H2O, O2, organics) 會導致電漿不穩、訊號抑制，甚至產生嚴重的質譜干擾 (如 56Fe 受到 40Ar16O 干擾)。

ICP-MS 氣體純化器 是專為解決此問題設計的 Point-of-Use (POU) 解決方案。

無論是用於電漿的主氣 (Plasma Gas)，還是碰撞反應池 (CRC/DRC) 的反應氣，安裝 純化器都能讓您的儀器發揮出真正的 PPT 級實力。

技術規格表 Spec:

適用氣體:
惰性氣體: Ar, He, Ne, Xe, Kr, N2
氫氣模式: H2 (去除 H2O, O2, CO, CO2)
氧氣模式: O2 (去除 H2O, THC)
氨氣模式: NH3 (去除 H2O, O2)

出口純度 (Outlet Purity):
<1ppb

最大流量 (Max Flow Rate):
標準型: 1 - 5 or 10 - 50 SLPM

Target Applications (應用場景):
半導體微汙染分析: 12吋晶圓廠化學品、UPW 與晶圓表面微量金屬檢測 (PPT/PPQ level)。
同位素比值分析: 地質與核能領域的高精度同位素測定。
生醫與臨床: 血液、尿液中的微量元素檢測。

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