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頂規無塵室專用海綿 / 海綿式無塵布 (Class 10 Cleanroom Sponge) - 抗靜電與不掉屑專用
NT$1
產品介紹:
在先進半導體製程中,機台內部往往充滿了經過特殊噴砂處理的金屬表面。當工程師使用一般無塵布進行 PM (預防性保養) 時,極易發生「勾紗」現象,導致殘留的纖維屑成為致命的微粒汙染源。
為了解決這個痛點,這款 頂規無塵室專用海綿 (Class 10 級) 應運而生 。它結合了無塵布的擦拭便利性與海綿的高吸附力,在嚴格的製程控制下生產,確保批次間的品質一致性 (Lot-to-lot consistency) 。除了極低的微粒生成率,它也嚴格限制了陰陽離子 (如氯、硫酸根、鈉、金屬離子) 與有機物的殘留 。我們提供塊狀海綿 (Sponge) 以及薄片狀海綿布 (Wiper) 兩種型態 ,甚至可搭配專用的無塵室研磨刷布 (ScrubPADs) 進行濕式深層清潔 。
技術規格表
Spec:材質: 網狀親水性聚氨酯發泡 (Hydrophilic Polyurethane Foam)
適用環境: Class 10 無塵室 (Class 10 Wiper)
抗靜電性能 (ESD Performance):
表面電阻 (Surface Resistance): 1.7*10^9 ohms
體積電阻 (Volume Resistance): 1.1*10^10 ohms
摩擦起電 (Tribocharge): 擦乾時 < 8 volts
靜電消散時間: ±5 kv 降至 ±10 volts < 1.5 秒
潔淨度表現 (Cleanliness):
大型微粒/纖維掉落 (>25um): 0
氯離子 (Chloride): <6ug/cm^2
規格尺寸選型表
塊狀海綿 (Sponge) 0.37" x 2.62" x 4.37" 搭配刷布濕洗、機台死角吸水
塊狀海綿 (Sponge) 0.375" x 3.625" x 5.375" 大面積零件刷洗墊片
海綿布 (Wiper) 0.0625" x 9" x 9" 腔體牆面常規無塵擦拭
厚款海綿布 (Wiper) 0.109" x 9" x 9" 高吸液需求、重度油汙/溶劑擦拭
Target Applications (應用場景):
半導體前段製程: 晶圓傳輸腔體 (Wafer transfer chambers) 的無纖維擦拭 。
設備 PM 保養: 粗糙、顆粒狀及噴砂表面金屬腔體的抗磨損清潔 。
高階光學與面板: 靜電敏感玻璃基板與鏡片周邊設備的除塵保養。
生技醫藥廠房: 需要嚴格控制纖維落塵 (Fiber-free) 的無菌操作台或不鏽鋼槽體清潔 。
聯繫我們取得報價資訊
Email: sales@ultra-trace.com
在先進半導體製程中,機台內部往往充滿了經過特殊噴砂處理的金屬表面。當工程師使用一般無塵布進行 PM (預防性保養) 時,極易發生「勾紗」現象,導致殘留的纖維屑成為致命的微粒汙染源。
為了解決這個痛點,這款 頂規無塵室專用海綿 (Class 10 級) 應運而生 。它結合了無塵布的擦拭便利性與海綿的高吸附力,在嚴格的製程控制下生產,確保批次間的品質一致性 (Lot-to-lot consistency) 。除了極低的微粒生成率,它也嚴格限制了陰陽離子 (如氯、硫酸根、鈉、金屬離子) 與有機物的殘留 。我們提供塊狀海綿 (Sponge) 以及薄片狀海綿布 (Wiper) 兩種型態 ,甚至可搭配專用的無塵室研磨刷布 (ScrubPADs) 進行濕式深層清潔 。
技術規格表
Spec:材質: 網狀親水性聚氨酯發泡 (Hydrophilic Polyurethane Foam)
適用環境: Class 10 無塵室 (Class 10 Wiper)
抗靜電性能 (ESD Performance):
表面電阻 (Surface Resistance): 1.7*10^9 ohms
體積電阻 (Volume Resistance): 1.1*10^10 ohms
摩擦起電 (Tribocharge): 擦乾時 < 8 volts
靜電消散時間: ±5 kv 降至 ±10 volts < 1.5 秒
潔淨度表現 (Cleanliness):
大型微粒/纖維掉落 (>25um): 0
氯離子 (Chloride): <6ug/cm^2
規格尺寸選型表
塊狀海綿 (Sponge) 0.37" x 2.62" x 4.37" 搭配刷布濕洗、機台死角吸水
塊狀海綿 (Sponge) 0.375" x 3.625" x 5.375" 大面積零件刷洗墊片
海綿布 (Wiper) 0.0625" x 9" x 9" 腔體牆面常規無塵擦拭
厚款海綿布 (Wiper) 0.109" x 9" x 9" 高吸液需求、重度油汙/溶劑擦拭
Target Applications (應用場景):
半導體前段製程: 晶圓傳輸腔體 (Wafer transfer chambers) 的無纖維擦拭 。
設備 PM 保養: 粗糙、顆粒狀及噴砂表面金屬腔體的抗磨損清潔 。
高階光學與面板: 靜電敏感玻璃基板與鏡片周邊設備的除塵保養。
生技醫藥廠房: 需要嚴格控制纖維落塵 (Fiber-free) 的無菌操作台或不鏽鋼槽體清潔 。
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