我們提供專業的 GC-MS (氣相層析質譜儀) 分析服務，專為半導體與高科技製程中的液體化學品提供「超微量有機汙染物」的檢測與鑑定。 針對製程中出現的異常良率波動或潔淨度問題，我們利用業界頂尖的高解析 GC-MS 設備，結合針對半導體化學品（如 IPA、Acetone 等）優化的前處理技術，快速鎖定並鑑定液體中的未知雜質 (Unknown Peaks)。協助您確保進料檢驗 (IQC) 與出貨檢驗 (OQC) 的品質，極大化產品良率與製程穩定度。

服務特色
極限偵測能力 (Ultra-trace Detection)：具備優異的靈敏度，依據基質不同，可檢測低至 10 ~ 100 ppb 等級的微量有機雜質，滿足先進製程對潔淨度的嚴苛要求。
強大圖庫比對 (Library Matching)：擁有最新的 NIST 國際質譜圖庫，並結合我們多年累積的「半導體常用添加劑與汙染物自建庫」，能大幅提升未知物 (Unknowns) 的鑑定成功率。
優化前處理技術：針對高純度溶劑、光阻、去光阻液 (Stripper) 等特殊化學品，開發專屬的樣品前處理與濃縮技術，避免基質干擾。
快速鑑定與報告：提供清晰的質譜圖譜分析與專業的鑑定報告，協助工程師快速判斷汙染源。

詳細檢測規格
核心設備：高解析氣相層析質譜儀 (GC-MS)
偵測極限 (LOD)：10 ~ 100 ppb (視樣品基質與目標物而定)
適用樣品：液體化學品、有機溶劑、清洗液
分析目標：揮發性有機物 (VOCs)、半揮發性有機物 (SVOCs)、未知有機汙染物
進樣方式：液體直接進樣 (Liquid Injection)、頂空進樣 (Headspace) 等多樣化系統

典型應用領域
濕製程化學品監控：針對 IPA (異丙醇)、Acetone (丙酮)、PGMEA、Thinner (稀釋劑) 等關鍵清洗液與溶劑進行例行性監測。
異常失效分析 (FA)：當晶圓或製程出現不明有機殘留 (Organic Residue) 時，協助鑑定汙染物成分以追溯來源。
供應商評鑑：協助化學品供應商或終端使用者進行原料的純度驗證與不純物分析。

FAQ 常見問題
Q: 請問送樣需要多少樣品量？ A: 一般液體樣品建議提供至少 20~50 ml，並裝於潔淨的玻璃樣品瓶中（建議使用鐵氟龍墊片蓋），以避免採樣過程引入二次汙染。
Q: 所有的「未知物」都能被鑑定出來嗎？ A: 我們利用 NIST 圖庫與自建庫進行比對，對於常見有機分子鑑定率極高。然而，若該物質為極其罕見的合成副產物或不在圖庫中的聚合物片段，我們將提供最接近的結構式與官能基資訊供您參考。

詢價與技術諮詢 如有樣品測試需求或想了解詳細報價，歡迎聯繫我們： Email: sales@ultra-trace.com