產品特色:

完美的零點氣體生成 (True Zero Gas Generation): 針對 CRDS 極高的靈敏度，本純化器能深度去除目標分析物。例如 NX 系列 可去除 CH4 (甲烷) 與 H2O (水氣) 至 < 1 ppb，為甲烷或水氣分析儀提供完美的歸零背景。

超微量水氣控制 (< 0.1 ppb Moisture): 針對 trace-H2O (痕量水) 分析需求，XT 系列 提供 < 0.1 ppb 的除水能力，確保在檢測 Bulk Gas (如 CDA, N2) 中的微量水分時，基線不會受到干擾。

廣泛的背景氣體相容性 (Matrix Gas Compatibility): 無論您的 CRDS 是分析惰性氣體 (N2, Ar, He) 還是反應性氣體 (H2, O2, CDA)，我們都有對應的純化媒介 (NX, NX-H, X, XT) 可供選擇，且不與背景氣體發生反應。

產品介紹:
光腔衰盪光譜技術 (CRDS) 以其「免校正」與「超高靈敏度」著稱，常用於半導體製程氣體的 PPT 級汙染監測。然而，要驗證儀器的「零點 (Zero)」或進行稀釋校正，您需要瓶裝氣體無法提供的「超純氣源」。

CRDS 專用氣體純化器 是產生高品質 Zero Gas 的最有效方案。若您的應用是量測 N2 中的微量甲烷 (CH4)，我們的 NX 系列 能利用化學吸附將氣源中的 CH4 與有機物徹底移除；若您是量測電子級氣體中的水分，XT 系列 能將水氣降至 0.01 - 0.1 ppb 的極限水平。安裝於儀器入口端 (Point-of-Use)，不僅能消除鋼瓶氣體的波動，更能保護昂貴的光學腔體免受油氣汙染。

技術規格表 Spec:
流量: 4, 25, 40 SLPM
出口品質: <1ppb, <0.1/0.01ppb

優勢:
挑戰物理極限的除水能力: 對於 CRDS 最常測量的「水分」，提供優於一般 < 0.1 ppb 表現，這是驗證 ppt 級水分分析儀不可或缺的工具。
有效去除輕烴 (Light Hydrocarbons): 有效攔截 CH4 (甲烷)，這是一般常溫純化器難以做到的，對於半導體廠監測 AMC (氣態分子汙染物) 至關重要。
即裝即用的穩定性。

Target Applications (應用場景):
CRDS 儀器歸零 (Zeroing): Picarro, Tiger Optics, Meeco 等微量水/甲烷分析儀的零點校正。
標準氣體稀釋 (Dilution): 作為配製 PPT 級標準氣體的稀釋底氣 (Diluent Gas) 純化。
半導體氣體監測: 用於 12 吋晶圓廠大宗氣體 (Bulk Gas) 供應系統的雜質監控前處理。

如有任何報價或其他需求，歡迎聯繫
sales@ultra-trace.com