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除硼樹脂|Boron Removal Resin|UPW超純水硼控制|半導體用
NT$1
除硼樹脂(Boron Removal Resin)用於 UPW 超純水與高純化學品的硼(B)控制,具高選擇性去除能力,協助降低 ppb/ppt 等級硼背景與製程風險。提供樹脂選型、填裝、啟用、監測與更換建議,支援半導體與精密製程應用。
在半導體製程與超純水(UPW)系統中,硼(Boron)常被視為高敏感的關鍵污染物之一,可能影響表面電性、薄膜特性與製程窗口。除硼樹脂以「對硼具有高選擇性」的機制設計,可用於 UPW 抛光段或特定化學供應端,協助你在嚴格規範下有效降低硼背景,提升製程穩定度與良率。
「產品特色」
1) 高選擇性去除硼,降低背景風險
針對硼的去除需求設計,適用於低濃度硼控制場景(依系統設計與監測方式,可對應 ppb/ppt 等級管理目標),降低製程波動與不明來源污染疑慮。
2) 適用 UPW 抛光段與高純用水端點(POU)
可用於 UPW 系統的特定位置進行硼抑制與保險式防護(例如:關鍵端點、特定工具用水、或需要強化硼控制的段落),與既有純化架構搭配導入。
3) 低溶出與潔淨導入
可依需求提供潔淨填裝、啟用與沖洗建議,降低導入初期對水質的影響,並縮短達標時間。
4) 支援完整交付:選型、填裝、監測與更換策略
除供應樹脂本體外,我們也提供「從能用到好用」的配套:填裝建議、啟用程序、採樣與監測點設計、耗材更換週期估算與維護建議。
「適用應用」
ICPMS Boron 分析
UPW 超純水系統硼控制(抛光段/端點/關鍵工具)
半導體製程用水、設備用水的硼背景管理
高純水/高純溶液製程或分析前段的硼干擾降低
需要強化硼控制的精密製程(依你的規範導入)
「供應形式」
散裝樹脂供應:適合既有樹脂塔/樹脂罐更換
預填裝樹脂柱/模組(選配):適合快速導入與端點應用
想要快速評估「你的 UPW 系統需要除硼樹脂」?
請提供:流量、進水硼範圍、目標硼值、預計安裝位置
聯絡我們:sales@ultra-trace.com
在半導體製程與超純水(UPW)系統中,硼(Boron)常被視為高敏感的關鍵污染物之一,可能影響表面電性、薄膜特性與製程窗口。除硼樹脂以「對硼具有高選擇性」的機制設計,可用於 UPW 抛光段或特定化學供應端,協助你在嚴格規範下有效降低硼背景,提升製程穩定度與良率。
「產品特色」
1) 高選擇性去除硼,降低背景風險
針對硼的去除需求設計,適用於低濃度硼控制場景(依系統設計與監測方式,可對應 ppb/ppt 等級管理目標),降低製程波動與不明來源污染疑慮。
2) 適用 UPW 抛光段與高純用水端點(POU)
可用於 UPW 系統的特定位置進行硼抑制與保險式防護(例如:關鍵端點、特定工具用水、或需要強化硼控制的段落),與既有純化架構搭配導入。
3) 低溶出與潔淨導入
可依需求提供潔淨填裝、啟用與沖洗建議,降低導入初期對水質的影響,並縮短達標時間。
4) 支援完整交付:選型、填裝、監測與更換策略
除供應樹脂本體外,我們也提供「從能用到好用」的配套:填裝建議、啟用程序、採樣與監測點設計、耗材更換週期估算與維護建議。
「適用應用」
ICPMS Boron 分析
UPW 超純水系統硼控制(抛光段/端點/關鍵工具)
半導體製程用水、設備用水的硼背景管理
高純水/高純溶液製程或分析前段的硼干擾降低
需要強化硼控制的精密製程(依你的規範導入)
「供應形式」
散裝樹脂供應:適合既有樹脂塔/樹脂罐更換
預填裝樹脂柱/模組(選配):適合快速導入與端點應用
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