陽極氧化鋁 AAO 奈米孔洞細胞培養基板 (Nanoporous AAO Cell Culture Substrates) - 仿生拓撲結構

陽極氧化鋁 AAO 奈米孔洞細胞培養基板 (Nanoporous AAO Cell Culture Substrates) - 仿生拓撲結構

NT$1
AAO 奈米孔洞細胞培養基板: 打造最接近體內的細胞生長環境

產品特色:
可調控的奈米拓撲結構 (Tunable Nanoscale Topology): AAO 基板表面具有高度有序的奈米孔洞,這種獨特的物理結構能模擬細胞外基質 (ECM) 的紋理,已被證實能有效促進細胞的絲狀偽足 (Filopodia) 伸展,增強 細胞貼附 (Attachment)、存活率 (Viability) 與 增殖能力 (Proliferation)。

優異的物質傳輸能力 (Nutrient & Metabolite Transport): 高密度的直通奈米孔道充當了「透氣」的介面,允許培養液中的營養物質與氧氣自由穿透,同時快速移除代謝廢物,解決了傳統實心基板底部缺氧與代謝物堆積的問題。

最佳化的成像性能 (Optimal Imaging):
AAO 基板具備平整的表面與特定的光學特性,背景螢光低,非常適合進行高解析度的顯微鏡成像 (Microscopy) 與細胞形態觀察。

產品介紹:
在細胞生物學研究中,傳統的平面玻璃或塑膠培養皿往往缺乏真實組織的立體微環境。細胞在過於光滑的表面上,其生長行為與體內 (In vivo) 差異甚大。

AAO 細胞培養基板 利用陽極氧化鋁 (Anodic Aluminum Oxide) 的天然蜂巢狀結構,為細胞提供了一個具備「奈米級粗糙度」的仿生支架。我們提供從 10nm 到 200nm 的多種孔徑選擇,讓研究人員能針對不同細胞類型(如神經元、上皮細胞、幹細胞)篩選最佳的生長拓撲。此外,AAO 的通透性使其成為 跨膜共培養 (Transwell Co-culture) 與 屏障模型 (Barrier Models) 研究的理想材料,真正實現了結構與功能的雙重仿生。

技術規格表 Spec:
材質: 陽極氧化鋁 (Anodic Aluminum Oxide, AAO)

基板直徑 (Wafer Size):
Ø 3 mm, Ø 5 mm, Ø 10 mm, Ø 13 mm, Ø 25 mm

孔徑選擇 (Pore Diameter):
10 nm, 20 nm, 40 nm, 80 nm, 120 nm, 160 nm, 200 nm

基板厚度 (Wafer Thickness):
20 µm, 50 µm

Target Applications (應用場景):
基礎細胞培養: 幹細胞分化、神經細胞引導生長、骨細胞礦化研究。
共培養模型 (Co-Culture): 血腦屏障 (BBB)、腸道屏障等跨膜運輸模型。
顯微成像: SEM (掃描式電子顯微鏡)、熒光顯微鏡下的細胞骨架與形態觀察。
組織工程: 作為奈米支架 (Scaffold) 引導組織再生。

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